
在台積電先前采購EUV (極紫外光) 微影系統裝置之後,英特爾今日和ASML共同宣布首度率先采購下世代最新EUV裝置High-NA,并計劃2025年導入量産。
依據雙方今日共同新聞稿提到,英特爾和ASML加強合作,推動High-NA在2025年投入制造,此次是英特爾率先且首次訂購ASML的TWINSCAN EXE:5200系統,象征着邁出關鍵一步。
ASML并未揭露哪家半導體廠率先采用下世代EUV,不過自2018年已經接獲4台新一代High-NA EUV (TWINSCAN EXE:5000) 訂單,當時就被業界點名是台積電率先預定。
如今英特爾則率先采采購TWINSCAN EXE:5200,讓ASML再度接到一筆新的High-NA EUV訂單。