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用面積、堆疊換性能!華為晶片堆疊封裝專利公布

據公開資料顯示,華為公布了名為“一種晶片堆疊封裝及終端裝置”的專利技術。摘要中介紹這是涉及半導體技術領域,可以保證供電需求和解決采用矽通孔技術導緻的成本過高問題。

用面積、堆疊換性能!華為晶片堆疊封裝專利公布

據天眼查App顯示,近日,華為技術有限公司“一種晶片堆疊封裝及終端裝置”專利公布。

用面積、堆疊換性能!華為晶片堆疊封裝專利公布

專利摘要顯示,本公開為一種晶片堆疊封裝及終端裝置,涉及半導體技術領域,其能夠在保證供電需求的同時,解決因采用矽通孔技術而導緻的成本高的問題。

這項專利技術的申請時間是2019年9月30日,直到今年4月5日才正式公布。距今為止是第三個年頭,這說明華為并不是一時興起才開始研發這項技術的。

早在數年前就已有準備,随着華為公布晶片堆疊專利,不排除後續會有相關動作展開的可能性。

也許是基于這項技術進行實際産品落地,也許還處在技術積累階段,等國産自主産業鍊成熟,再進行後續動作。是以目前還不确定華為會根據這項技術進行哪些行動,但可以确認的是,關于晶片堆疊技術,華為并不是一片空白。

該晶片堆疊封裝(01)包括:設定于第一走線結構(10)和第二走線結構(20)之間的第一晶片(101)和第二晶片(102);所述第一晶片(101)的有源面(S1)面向所述第二晶片(102)的有源面(S2);第一晶片(101)的有源面(S1)包括第一交疊區域(A1)和第一非交疊區域(C1),第二晶片(102)的有源面(S2)包括第二交疊區域(A2)和第二非交疊區域(C2);第一交疊區域(A1)與第二交疊區域(A2)交疊,第一交疊區域(A1)和第二交疊區域(A2)連接配接;第一非交疊區域(C1)與第二走線結構(20)連接配接;第二非交疊區域(C2)與第一走線結構(10)連接配接。

是以選擇晶片堆疊這項技術,既要保證性能提升,又要確定穩定功耗,在特殊的應用場景中,還不能過度占用裝置面積,以免影響其它裝置功能的發揮。這就需要看具體實際情況了,看看華為究竟是打算将晶片堆疊應用到哪些場景中。如果是手機處理器,恐怕一時半會還無法取得較大突破。

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