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繞開ASML光刻機,功耗降低50倍,國産晶片迎來超車新機遇

繞開ASML光刻機,功耗降低50倍,國産晶片迎來超車新機遇

文/Dong 稽核/子揚 校正/知秋

随着摩爾定律的逐漸失效以及矽基晶片的發展逼近極限,現如今全球的各大晶片廠商開始尋找晶片行業發展的新方向。

其中,碳基晶片被業内人士看作未來将取代矽基晶片的重要産品。

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功耗降低50倍

業内資料顯示:将納米碳作為材料制造的半導體,在實驗室環境下,納米碳半導體的功耗表現要比矽半導體優秀5倍。

此外,碳基內建電路的綜合功耗表現要比現下的矽基內建電路降低約50倍。

值得一提的是,碳基晶片的制造除了功耗較低的優勢之外,還具備制造成本較低等先天的優勢。

同時,在碳基晶片的制造方面,依舊可以延續當下矽基晶片所需要的制造裝置。或者更準确點說,相同工藝制程的碳基晶片與矽基晶片相比較,碳基晶片對于制造所需要的裝置要求更低。

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繞開ASML光刻機

衆所周知,大陸晶片被外資卡脖子的重要原因并不是大陸相關晶片企業在晶片設計方面的落後,而是缺乏晶片制造的關鍵裝置——EUV光刻機。

然而,業内人士表示,碳基晶片問世之後,或許将繞開ASML的EUV光刻機。

資料顯示:現如今市面上的光刻技術分為DUV技術以及EUV技術。其中,DUV光刻機可以實作25nm的晶片工藝制程,即便是英特爾憑借自身的雙工作台模式,利用DUV光刻機也不過隻能夠達到10nm工藝制程;10nm以下的晶片制造技術,依舊需要借助EUV光刻機才能夠實作。

然而,在碳基晶片的制造過程中,DUV光刻機就可以滿足5nm晶片制造技術的要求。

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國産晶片迎來超車新機遇

是以,對于大陸的晶片制造企業來說,未來在碳基晶片的不斷發展中,或許将借這一機會在不依賴荷蘭ASML進口EUV光刻機的前提之下,成功發展先進的晶片工藝制程。

不過,從碳基晶片目前的發展情況來看,還處于實驗室研究的初級階段,是以,大陸想要切實實作碳基晶片的量産,還需要很長的一段路要走。

此外,雖然說碳基晶片的制造成本較低,但是研究投入卻并不低。業内人士表示,想要保證碳基晶片完成量産,碳基材料的研究投入需要達到幾十億元。

而由于碳基晶片在前期研究時的回報比并不明朗,是以想要發展碳基晶片,政府的相關投入以及支援在這個過程中就顯得十分重要。

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寫在最後

根據新華網透露的消息顯示:碳基材料已經被列入“十四五”原材料工業發展規劃之中。倘若後續大陸在碳基材料方面可以取得突破性進展,未來大陸晶片領域的發展将找到新的發展增長點,國産晶片也正式迎來彎道超車的新機遇。

你看好碳基晶片未來的發展前景嗎?

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