在晶片賽道，光刻機是大陸難以言說的痛點。大陸并非沒有嘗試自研光刻機，關于國産光刻機的好消息近兩年也不斷傳出。這不，就在2月7日，上海微電子傳遞了一台2.5D/3D先進封裝光刻機，算是大陸在光刻機領域的一個突破。
但封裝光刻機屬于後道光刻機，不是用來制造晶片的，隻能封裝晶片。用于晶片制造的前道光刻機有着極高的技術壁壘，對大陸現有的制造水準來說相當棘手，國産28nm光刻機到現都還沒确切消息。
而7nm以下制程的EUV光刻機，光零件就超過了10萬個，要造出來更是難如登天，全球都隻有荷蘭ASML一家公司能夠生産出。
從第一台EUV光刻機釋出至今，ASML傳遞了的EUV光刻機一共有132台，當然，沒有一台是賣給大陸的。中芯國際在2018年就交了1.2億美元的EUV光刻機定金，卻因為美方的封鎖，ASML到現在都沒能交貨。也因為如此，大陸的晶片制造還處于中低端水準。
代表國産晶片最高端生産水準的半導體企業中芯國際，如今也隻能量産14nm的晶片。而台積電已經在量産5nm晶片了，還表示要在今年下半年實作3nm晶片的量産。
中芯國際的梁孟松也說過：5nm晶片的研制工作已經展開，技術難度最高的幾部分也在攻克中了，EUV光刻機一到貨，就可以全方位研制。是以說來說去，關鍵點還是在EUV光刻機，沒有它，連中芯國際都很難有突破。
難道沒有一種工藝，可以跳過EUV光刻機，制造出7nm及以下的晶片嗎？其實是有的，這種工藝就是“光量子晶片”。
傳統晶片的制造多是采用微納米技術對其進行加工，精度越高，對工具和技術的要求也越高。到7nm及以下的晶片時，就隻有EUV光刻機可以完成了。制造光量子晶片雖然也需要用到光刻機，但是光量子晶片對微納米技術的要求不高，用DUV光刻機就可以了。
2008年，英國推出了第一款內建光學量子晶片（簡稱“光量子晶片”），這種晶片一經問世就引起了轟動。因為它的資訊傳遞載體是光，在操控精度、儲存時間、運作能力等方面都碾壓了傳統的晶片。
雖然光量子晶片的性能遠優于傳統晶片，但是谷歌等外國龍頭并不看好光量子晶片，因為光線很容易被消耗殆盡，而且量子技術也非常難。但大陸卻非常重視光量子晶片，“國家隊”中科院更是帶頭研究起了光量子晶片。
十多年間，中科大的研究人員在光量子晶片領域屢屢取得突破，中科大的潘建偉院士明确表示，中科大已經攻克了兩項光量子晶片技術，在全球賽道領跑。
2018年，潘建偉院士的學生金賢敏所帶領的上海交大科研團隊，通過“飛秒雷射直寫”這一高端技術，成功制備出49×49節點數的內建光量子晶片。
去年下半年，中科大又通過優化量子資訊處理效率等性能，制備出了“魚叉”形的拓撲分束器結構，國防科技大學也制備出了可程式設計的光量子晶片。在中科大的帶領下，以及相關科研團隊、高校技術團隊與科技企業的共同努力下，中國在光量子晶片領域實作了質的突破。
最近，中國科學技術大學團隊量子模拟研究再獲得重大突破——潘建偉、姚星燦、陳宇翺團隊基于超冷锂-镝原子量子模拟平台，首次測得第二聲的衰減率（聲擴散系數），并以此準确測定了體系的熱導率與粘滞系數。這給大陸發展光量子晶片再次增加了技術基礎。
目前，由金賢敏創立的圖靈量子，成了國内在光量子晶片領域的頭部企業，去年11月這家公司就完成了上億元的融資，君聯資本、中芯聚源、琥珀資本等均有跟投，核心目标就是可程式設計光量子晶片的研發和流片，以及量子算法的商業化落地。
多年來，中科大在量子領域的探索一直沒有停過，而光量子晶片已經成功完成了風險試産，相信一旦實作了微納米及光量子晶片的量産，大陸就可以破除EUV光刻機封鎖的桎梏。
半導體雖然是高精尖科技領域，但也和其他領域一樣，在不斷發展創新。光刻機這個卡脖子裝置并不是沒法繞過，如今光量子晶片技術逐漸發展起來，突破現有晶片制造技術隻是時間問題。
或許正如ASML的CEO所說的，中國目前确實無法獨立制造頂尖光刻機，但并不代表中國突破不了這個瓶頸，因為中國會一直嘗試攻克。