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怕啥來啥!日本宣布:斷供23種晶片裝置,ASML總裁突然訪華

引領科技未來:挑戰與奮進

時光荏苒,科技前行,美國與中國之間的科技競争早已不是新鮮話題。近年來,美國頻繁對中國科技企業進行制裁,這種行為被一些人形容為将“流氓”角色演繹得淋漓盡緻。華為作為中國科技巨頭,早已成為美國眼中的“眼中釘”,然而,不滿足于對華為的施壓,美國近來将目光投向了中國的光刻機等裝置,企圖在科技領域的霸權争奪中占據上風。

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光刻機,作為晶片産業鍊的薄弱環節,備受中國科技從業者關注。晶片設計方面,華為、阿裡等企業已突破5納米晶片技術,中芯國際在晶片制造領域有所建樹。然而,EUV光刻機的缺失令中國的晶片制造程序受到制約。是以,ASML的EUV光刻機成為中國迫切需要的關鍵裝置之一。然而,美國聯合荷蘭和日本的制裁行動,對中國光刻機事業構成了巨大挑戰。

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荷蘭的ASML作為全球最大的光刻機制造商,深知中國光刻機市場的重要性,然而美國的壓力使得荷蘭最終選擇向美國低頭,這一舉動令人深感霸權的陰影。而對ASML而言,中國市場的重要性不言而喻,每年貢獻的數十億歐元營收以及近年來累計出售的光刻機數量,都使中國成為其不可或缺的一部分。

然而,這場科技博弈中的角力不僅僅涉及荷蘭,日本也加入了這場對抗。近期,日本對多種晶片制造裝置實施出口管制,雖然未明确針對中國,但這一舉措無疑會對全球供應鍊穩定帶來沖擊。日本如此行動,似乎讓人不禁回想起曆史上的半導體産業競争,而如今的選擇是否值得警惕?

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面對美國的施壓和制裁,中國科技企業寸步不讓,尋找突破口始終是他們的應對之策。過去的種種例證表明,每一次壓力都能激發創新,推動自主研發。無論是原子彈、國産大飛機,還是其他領域的突破,中國都展現出了堅韌和毅力。這一次,在光刻機等領域的挑戰面前,我們同樣有理由相信,自主研發的步伐不會停滞。

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科技道路漫漫,挑戰雖重,但正是這種挑戰塑造了科技發展的強大動力。隻有堅定不移地前行,加強自主研發,縮小與國際差距,才能在競争中立于不敗之地。回望過去的輝煌,展望未來的無限可能,中國科技的腳步不會停歇。

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