EUV光刻機技術壟斷引發全球晶片格局生變
極紫外光刻（EUV技術被視為半導體制程發展的關鍵，掌握這項技術意味着占據晶片制造的制高點。目前，荷蘭光刻機制造商ASML是全球唯一能量産EUV光刻機的企業，在這一領域處于壟斷地位。
EUV光刻機之是以備受矚目，是因為它能将電路線寬縮小至7納米以下，滿足摩爾定律持發展的需求。傳統的193納米深紫外光刻技術越來越難以跟上晶片制程的miniaturization趨勢，EUV光刻機應運而生。它利用13.5納米的極紫外線，通過精密的光學系統将微縮的電路圖形曝刻到矽片上，進而制造出更小更精密的晶片。
EUV光刻機的研發之路并非一帆風順。由于極紫外線易被空氣吸收，整個曝光過程必須在真空環境中進行，給機器的設計和制造帶來極大挑戰。ASML憑借整合全球供應鍊的能力，将美國Cymer公司的雷射系統、德國蔡司和特朗普公司的鏡頭和精密儀器技術融合，終于在2017年實作EUV光刻機的量産。
中國大陸正加緊國産EUV光刻機的研發，但受制于關鍵零部件的技術封鎖，目前仍面臨重大挑戰。如果能自主掌握EUV技術，将有助于擺脫對外依賴，提升晶片制造實力。但這無疑将進一步加劇中美科技對抗的緊張局勢。
荷蘭獨立傳統影響其在中美科技戰略競争中的立場
荷蘭曾與西班牙帝國進行了長達80年的獨立戰争，這場戰争對後來的英國内戰和美國獨立運動産生了重要影響。1568年，荷蘭人民開始反抗西班牙的統治，經過艱苦卓絕的鬥争，最終在1648年獲得獨立，結束了西班牙的統治。這段獨立戰争的曆史，深深銘刻在荷蘭人民的集體記憶中，也塑造了荷蘭堅持獨立自主的民族性格。
目前，在應對中美戰略競争時，荷蘭試圖保持獨立自主的立場。一方面，荷蘭不願将中國視為對手，希望與中方保持務實合作關系。中國是荷蘭在亞洲的大貿易夥伴，兩國在經貿、科技、文化等領域保持着密切聯系。另一方面，荷蘭也不願完全追随美國對華政策，在中美之間尋求平衡，維護自身利益。
以EUV光刻機技術為例，美國一直試圖限制ASML向中國出口這一關鍵裝置，而荷蘭政府則堅持按照自身出口管制法規審批。荷蘭認為，EUV光刻機屬于民用商業技術，不應被列入出口管制清單。這種立場與美國的戰略意圖存在分歧。
荷蘭的獨立自主立場，反映了歐洲一些國家在中美科技對抗中試圖保持中立的努力。他們不希望被迫選邊站隊，而是呼籲維護開放的多邊貿易體系，反對技術封鎖和脫鈎。這種立場也受到了德國等國的認同。
全球晶片産業版圖重塑 理性看待分歧呼籲共赢
EUV光刻機之争反映出中美科技戰略對抗的一個縮影。一方面，中國大陸希望通過自主研發突破EUV光刻機技術封鎖，提升晶片制造實力；另一方面，美國則試圖限制這一關鍵技術向中國轉移，維護自身在半導體領域的領先地位。
這場技術之争将如何影響全球晶片供應格局？人工智能對高算力晶片的巨大需求，推動全球半導體産業格局重塑。美國、中國大陸、歐洲、日本等地區都在加大學土晶片産業投資，降低對單一供應鍊的依賴。
傳統晶圓代工企業如台積電的市場佔有率或将被動削減。英特爾、三星等大廠通過擴張産能，力争重奪市場地位。地緣政治因素也将影響未來晶片産業版圖的重塑。
EUV光刻機技術之争可能加劇中美科技對抗的緊張局勢。如果中國大陸最終無法突破技術封鎖，将進一步加大國産替代的決心；而美國則可能進一步更新技術管制措施，防止這一關鍵技術外流。
歐洲國家在中美科技戰略競争中的立場值得關注。荷蘭等國呼籲維護開放的多邊貿易體系，反對技術封鎖和脫鈎，試圖在中美之間尋求平衡。這種努力是否能獲得成功，将影響未來全球科技生态的走向。
我們都應該理性看待這一問題，避免将其過度政治化。科技發展應該造福全人類，維護全球産業鍊的穩定與繁榮才是上策。各方應在互相尊重的基礎上，通過對話協商解決分歧，實作共赢。