荷蘭ASML公司是一家全球領先的半導體制造裝置公司，總部位于荷蘭的瓦赫甯根（Veldhoven）。ASML是一家重要的高科技公司，專注于設計、制造和供應半導體晶片制造裝置，特别是光刻機。光刻技術在半導體制造中起着關鍵作用，它用于将晶片上的圖案投影到矽片上，進而制造出微小的電子元件和電路。ASML是全球最大的光刻裝置制造商，其先進的光刻機在半導體行業中有着絕對的壟斷的地位。是以，世界上所有晶片生産商都要向其購買光刻機，中國當然也在其中，但目前受限于美國晶片法案，要對中國實行技術封鎖，中國大陸目前已無法采購最先進的極紫外EUV光刻機。盡管荷蘭ASML于2018年就同意向中國領先的晶圓代工廠中芯國際提供EUV光刻裝置。在美國的壓力下，荷蘭政府現已裁定這份合同現在永遠不會履行。
荷蘭政府光刻機出口管制的法案将從今年9月1日開始生效
荷蘭政府頒布的最新政策将更為嚴厲，不僅要對中國禁售最先進的極紫外EUV光刻機（用于制造7納米及以下的高端晶片），也要對深紫外DUV光刻機（用于制造28 納米，14納米晶片，也是目前國内主流成熟技術）進行限制出貨。由于這些出口管制法規，ASML 需要向荷蘭政府申請其最先進的浸入式 DUV 光刻系統（TWINSCAN NXT:2000i 及後續浸入式系統）的所有發貨的出口許可證。荷蘭政府将決定是否授予或拒絕所需的出口許可證，并就任何适用條件向該公司提供進一步的詳細資訊。ASML 聲稱将繼續遵守适用的出口法規，包括荷蘭、歐盟和美國法規。
荷蘭ASML生産的極紫外光刻機，每台售價高達10億元。
外媒：中國晶片制造自主化，舉步維艱
荷蘭政府的出口管制隻針對最先進的光刻機系統，也就意味着中國隻能購買其他 ASML 老式光刻機系統。是以外媒覺得，中國的晶片制造将面臨巨大挑戰。比如，中國光刻機制造商上海微電子裝置公司（SMEE）将不得不在本地采購關鍵零部件。那會很困難。IDTechX 分析師 Yu-Huan Chang 表示，中國第一大晶圓代工廠中芯國際需要七年時間才能趕上當今的技術領先者。
限制晶片原材料出口，中國正在反擊
面對歐美的技術封鎖，中國也沒有坐以待斃。7月3日，中國将限制兩種制造晶片的關鍵金屬——镓和鍺——的出口，以反擊美國、荷蘭和日本限制一些先進光刻機系統的出口。盡管中國對原材料的控制——例如，其原镓供應量占全球的95%——晶片公司在最近的季度收益報告中對即将到來的限制保持相對沉默。比如，恩智浦半導體等歐洲領先晶片制造商很少在财報釋出或分析師後續電話會議中提及中國即将實施的原材料限制。ASML也表示，這些措施不會對該公司 2023 年的前景或長期前景産生“重大影響”。
但這并不意味着不會産生任何後果。
研究公司 Wood Mackenzie 的分析師在 7 月初的一份報告中寫道，由于中國的镓和鍺生産商必須尋求出口許可，這在很大程度上取決于許可程式的嚴格程度，該報告的标題為：“晶片戰争：事情的迹象”來嗎？報告稱：“如果許可程式限制向中國境外晶片制造商供應原材料，這将影響包括電動汽車在内的下遊最終用途市場。” 這讓人回想起 2020 年和 2021 年的晶片短缺，導緻汽車傳遞的等待時間增加。然而，更令人擔憂的是，目前的限制隻是更大規模更新貿易戰的開始。Wood Mackenzie報告稱：“令人擔憂的是，這種保護主義可能會更新到其他關鍵材料終端行業。”
ASML：中國自研光刻機，将破壞全球晶片産業鍊
ASML一直有一個顧慮，那就是這些管制措施會讓中國加快國産光刻機的研發，并直言其制造原理在中國也是一樣的。值得注意的是，ASML 起初并非是這樣的态度，而是認為即使向中國公開光刻機圖紙，中國也造不出先進的光刻機。但随着美國不斷地加碼限制措施，以及中國自研态度之後，ASML 有些着急了，并主動勸說美國，限制光刻機出貨将會導緻全球供應鍊中斷，而中國在其中扮演着非常重要的角色。言下之意，ASML也在擔心中國遲早有一天會解決光刻機核心技術難題，到時候它不僅将失去中國市場，而且還會在全球晶片産業競争中處于被動。因為，中國大陸是全球最大的半導體市場，同時也是全球最大的光刻機市場之一，ASML肯定十分依賴中國大陸市場。
最近ASML又聲稱，中國自主研制光刻機破壞了全球産業鍊。然而這種說法顯然言之無理。因為中國自主研制，正是因為受到了美國不斷加碼的出口管制和限制措施。與其指責中國破壞産業鍊，ASML 更應該反思荷蘭作為一個獨立實體的責任，而不是盲從美國、日本等國對華的脫鈎政策。
中國正積極推進光刻機國産化程序
中國近年來也在極大地支援和投資半導體相關行業。比如上海微電子已經實作90納米光刻機量産，雖與主流光刻機水準，還存在巨大的差距，這也意味着加快國産化光刻機程序的号角也已吹響。他們也正在有序推進更先進的光刻機研發，早晚能夠擺脫對國外光刻機的依賴。須知要全面追上目前最先進的光刻技術水準，中國在一些核心技術和關鍵零部件方面，還需要盡快實作全面國産化，尤其是在曝光光源（極紫外光源）、光刻膠和掩膜等方面。同時，政府也要達裡投入資金和人力，加速與高校和科研機關的緊密合作，也可以引進國外相關高新技術人才。
最後，也希望中國早日實作光刻機完全自主化，達到世界先進水準。ASML 現在不賣中國光刻機，等到中國日後取得最終突破，再想賣也要看中國意願了。