近日，有消息稱荷蘭政府拟提議限制浸沒式DUV光刻機的出口，該提議預計将在夏季之前公布。這一消息引發了半導體行業的關注和擔憂，因為浸沒式DUV光刻機是目前最先進的半導體裝置之一，對于晶片制造商來說至關重要。
浸沒式DUV光刻機是什麼？它有什麼作用？為什麼荷蘭要限制它的出口？這些問題都值得我們探讨。
浸沒式DUV光刻機是一種使用深紫外線（DUV）作為光源的光刻裝置，它可以在晶圓表面上刻畫出極其精細的圖案，進而實作高密度的內建電路。浸沒式DUV光刻機相比于傳統的幹法DUV光刻機，在晶圓和投影鏡頭之間加入了水層，以增加折射率和分辨率，進而能夠實作更小的線寬和更高的産量。
目前，全球隻有荷蘭公司ASML能夠生産浸沒式DUV光刻機，并且擁有其專利技術。ASML是全球最大的半導體裝置供應商，其客戶包括台積電、三星、英特爾等全球知名晶片廠商。其中，台積電是ASML最大的客戶之一，也是目前唯一能夠量産7nm及以下先進制程晶片的廠商。
那麼，為什麼荷蘭要限制浸沒式DUV光刻機的出口呢？據報道，這與美國對中國半導體行業施加壓力有關。美國認為中國半導體行業對其國家安全構成威脅，并且試圖阻止中國擷取先進技術和裝置。美國已經對中國最大的晶片代工廠商中芯國際實施了出口管制，并且向其盟友日本和荷蘭施壓，要求他們也對中國采取同樣措施。
然而，在此之前，荷蘭并沒有完全順從美國的意志。2019年底至2020年初期間，在美國政府多次阻撓下，荷蘭政府終于準許了ASML向中國出口一台浸沒式DUV光刻機，這台裝置是中芯國際用于生産14nm晶片的關鍵裝置1。然而，這一喜訊并沒有持續多久，就被荷蘭政府即将出台的半導體裝置出口限制的消息打破2。
據報道，荷蘭政府拟提議限制浸沒式DUV光刻機的出口，該提議預計将在夏季之前公布。這意味着ASML可能無法再向中國出口更多的浸沒式DUV光刻機，包括用于生産7nm及以下先進制程晶片的NXT:2000i系統3。
對此，ASML迅速發表聲明，表示新的出口管制并不涉及所有的浸沒式光刻機，而隻适用于“最先進的”系統。ASML将“最先進的”解讀為“TWINSCAN NXT:2000i及後續的系統”。也就是說，除了NXT:2000i以外，其他型号的浸沒式DUV光刻機還是可以出口中國4。
那麼，這對中國半導體行業有什麼影響呢？首先要明确一點，目前中國半導體行業還沒有達到7nm及以下先進制程晶片的量産水準。中芯國際作為目前大陸地區技術最領先的晶片代工廠商，能夠量産14nm晶片，并且正在建設28nm及以上成熟制程晶片的項目56。是以，在短期内，荷蘭新規對中芯國際和其他國内廠商并不會造成太大影響。
但是，在長期來看，如果荷蘭新規真的實施，并且持續下去，那麼對中國半導體行業就是一個巨大挑戰。因為如果想要實作7nm及以下先進制程晶片的量産，就必須要有NXT:2000i或更進階的光刻機。而這些光刻機目前隻有ASML一家能夠生産，而且受到荷蘭政府的出口管制。這就意味着中國半導體行業在技術上會遇到瓶頸，難以與國際水準保持同步。
是以，中國半導體行業需要加快自主研發和創新的步伐，盡快突破光刻機等關鍵裝置和材料的技術難題，實作自給自足。同時，也要積極與其他國家和地區進行合作和交流，争取打破美國等國家對中國半導體行業的封鎖和打壓。