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英特尔申请堆叠式叉板晶体管专利,或用于2nm、20A等先进制程工艺

据悉,英特尔或再次把精力放在了晶体管设计的研究上,以加速 2nm 及以下芯片制程工艺的出世。

近日,一项已通过的专利显示,英特尔已研发出“堆叠式叉板晶体管”(Stacked Forksheet Transistors)。

据了解,该专利申请是由英特尔的组件研究小组提交,这表明其有兴趣开发更快以及用相同功率发挥更大作用的芯片。

此外,英特尔所研发的这种堆叠式叉板晶体管可以实现垂直堆叠的 3D CMOS 结构。

该设计被描述为一种晶体管器件,其使用靠近主干边缘的垂直半导体通道堆叠制成,第二个晶体管堆叠在第一个晶体管的顶部,第二晶体管也同样堆叠有紧邻主干的垂直半导体通道。

英特尔申请堆叠式叉板晶体管专利,或用于2nm、20A等先进制程工艺

图 | 堆叠式叉板晶体管的透视图说明(来源:美国专利数据库 FPO)

然而,从专利文件中并不能看到充足的技术细节,实际上英特尔也未提交可参考的 PPA(power, performance and area,功率、性能和面积)改进数据。

已知的是,该堆叠叉板晶体管主要是将纳米带晶体管与锗原子薄膜进行组合应用。其中,锗原子薄膜是作为介电壁(Dielectric Wall),起到对垂直堆叠的各层晶体管进行物理分隔的作用,同时也是 p-栅极沟槽和 n-栅极沟槽之间的绝缘体。

在这种设计架构下,NMOS(N-Metal-Oxide-Semiconductor,N 型金属-氧化物-半导体)与 PMOS(Positive Channel Metal Oxide Semiconductor,P 型金属-氧化物-半导体)晶体管之间的排列会越为紧密,能够留出更多的空间,但各自的功能并不会因此受到影响。

相较当前性能最先进的三栅极晶体管而言,堆叠式叉板晶体管的体积虽然也很难缩小,但这种设计允许增加晶体管的数量。

通过这种堆叠晶体管技术,英特尔不仅可以在芯片中加入更多晶体管,而且能够使芯片以三维而不是当前芯片上使用的二维技术发送信号,以实现晶体管之间更快速地通信。

早在 2019 年,英特尔就在国际电子元件会议(International Electron Devices Meeting,IEDM)上展示了这项堆叠晶体管技术,当时该技术还处于研发阶段。

不过,该公司至今仍未公开堆叠叉板技术在晶体管性能、密度和效率方面的相关数据。

事实上,英特尔并不是唯一一家研究堆叠叉板技术的公司。

2019 年,比利时微电子研究中心(Interuniversity Microelectronics Centre,IMEC)的一个研究小组在网上发布了一份文件,描述了一种相关技术的晶体管,他们将其称之为堆叠叉板晶体管。

相比传统晶体管技术,IMEC 的这种晶体管在应用于 2nm 制程芯片工艺时,晶体管密度得到了显著提高。

数据显示,在恒定频率下,该堆叠叉板晶体管的运算速度得到 10% 的提升,能效得到 24% 的提升,单元面积减少了 20%。此外,通常用于芯片上高速缓存的静态随机存取存储器(Static Random-Access Memory,SRAM)将减少 30% 的占用空间,这是占据芯片总面积的主要“成员”之一。

这表明,在 2nm 及以下工艺节点,堆叠叉板晶体管技术有助于提升芯片的性能。

一直以来,英特尔和 IMEC 共同在纳米电子学(Nanoelectronics)上建立了长期且紧密的联系,IMEC 此前的这项研究成果也成为英特尔本次新专利的基础。

需要注意的是,并非所有通过的专利都有机会变为真实产品或制造技术。

英特尔申请堆叠式叉板晶体管专利,或用于2nm、20A等先进制程工艺

图 | 堆叠式叉板晶体管的平面图和横截面图(来源:美国专利数据库 FPO)

目前,还不能确定英特尔是否会将堆叠式叉板晶体管用到其 2nm 工艺,而英特尔也没有对其提议的叉片晶体管的性能做出任何声明或预测。

不过,既然英特尔提交了这项堆叠式叉板晶体管的专利,就表明其是有一定存在意义的。毕竟,该公司比大众更了解这项技术的可行性。

几十年来,英特尔一直采用数字递减加纳米等尺寸单位的方式来为芯片工艺节点命名,尺寸是指栅极之间的距离。前不久,该公司改变了这种命名方式,以更好地反映向新时代的过渡。

据悉,英特尔将把 Intel 3 之后的下一个节点命名为 Intel 20A,并在 2024 年推出该制程工艺。其中,20A 相当于 2nm,A 代表“埃”(Angstrom)。

除了新的节点命名方式外,英特尔还表示,将对 20A 进行两大方面的突破性改进。

在该工艺节点中,英特尔将用全新的GAA RibbonFET(Gate-All-Around RibbonFET)晶体管架构取代原来的 FinFET 晶体管技术,并加以运用 PowerVia 供电技术。

此外,英特尔还表明会对 Intel 20A 进行一些新的改进,这将推动 Intel 18A 的发展。结合此次英特尔在晶体管架构方面的新专利来看,其对 Intel 20A 的新改进或许就是堆叠式叉板晶体管的应用。

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英特尔申请堆叠式叉板晶体管专利,或用于2nm、20A等先进制程工艺

参考:

https://techxplore.com/news/2022-01-intel-stacked-forksheet-transistor-patent.html

https://www.freepatentsonline.com/20210407999.pdf

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