光刻機訂單被取消，美國壓境荷蘭企業，中國晶片産業面臨挑戰。
近日，美國政府施壓荷蘭半導體裝置制造商阿斯麥（ASML，要求其在出口禁令生效前取消對華光刻機訂單。這一做法引發中國政府強烈不滿，外交部發言人批評美方霸淩行徑違背國際貿易規則。作為全球光刻機領域的領軍企業，阿斯麥在華業務受到嚴重沖擊，未來發展前景蒙上陰影。
半導體晶片是支撐現代科技發展的基石，其制造過程離不開光刻機這一核心裝置。光刻機以精密的光刻工藝在矽片上印制微縮的電路圖形，是晶片制程的關鍵環節。全球光刻機市場長期被少數廠商壟斷，阿斯麥作為荷蘭本土企業，憑借領先的技術在該領域處于領先地位。
中國作為全球最大的晶片消費國，一直依賴進口滿足國内需求。為實作晶片産業自主可控，中國政府大力扶持國内企業發展，阿斯麥成為重要的合作夥伴。随着中美科技對抗加劇，美國開始濫用國家安全理由，對中國實施嚴厲的技術封鎖。
今年年初，美國政府突然下令阿斯麥取消對華光刻機訂單，理由是防止這些裝置被用于軍事用途。盡管阿斯麥聲稱沒有理由停止為中國客戶提供服務，但最終還是不得不服從美國壓力。這無疑給中國晶片産業發展帶來沉重打擊，也讓阿斯麥在華市場前景蒙上陰影。
面對美國的極限施壓，中國政府堅決反對，外交部發言人強硬表态，指責美方霸淩行徑嚴重違背國際貿易規則，破壞全球産業鍊供應鍊安全穩定。中方敦促荷蘭政府秉持客觀公正立場，尊重契約精神，維護雙邊企業利益。
美國對阿斯麥施加壓力，令中國晶片産業面臨嚴峻挑戰。長期以來，中國晶片産業高度依賴進口，尤其是光刻機等核心裝置和關鍵技術。一旦供應鍊中斷，國内晶片生産将陷入停滞。
據不完全統計，目前中國大陸地區共有近800台阿斯麥光刻機，分布于各大晶片制造企業。這些裝置的正常運轉需要阿斯麥提供持維護服務和更換關鍵零部件。一旦無法獲得維修和配件供應，這些光刻機極有可能＂報廢＂。
更為棘手的是，阿斯麥在其光刻機設計中擁有遠端控制權限，可以遠端關閉裝置。如果美國政府下令，阿斯麥随時可能切斷對在華裝置的支援。屆時，中國晶片制造商将陷入被＂卡脖子＂的困境。
面對如此嚴峻形勢，中國政府和企業必須加快國産光刻機發展步伐，盡快實作自主可控。目前，國内在光刻機國産化方面已取得重大進展，上海微電子等企業有望在2023年實作28納米光刻機量産。
28納米工藝與目前主流的7納米以及未來的3納米等先進工藝相比，仍有較大差距。要徹底解決＂被卡脖子＂困擾，中國必須在極紫外光刻機（EUV等尖端技術上取得突破。
令人欣喜的是，在EUV光刻機領域，中國科研團隊已經取得突破性進展。去年，華為與哈爾濱工業大學聯合攻關，成功研制出國内首台EUV光刻機原理樣機。
EUV光刻機是晶片制造的最尖端裝置，可将電路線寬縮小至7納米以下，是制造先進晶片的必由之路。長期以來，這一技術被國外壟斷，中國無法自主掌控。
華為和哈工大的突破，标志着大陸在EUV光刻機核心技術上取得重大進展。國産EUV光刻機有望替代進口裝置，助力中國晶片産業實作自主可控。
除了自主研發，中國還在積極拓展國際合作，努力打破技術封鎖。去年，中國與荷蘭簽署半導體合作協定，雙方将在晶片裝置、材料等領域開展廣泛合作。
中國還與俄羅斯、以色列等國家加強半導體領域合作，努力建構完整的晶片産業生态系統。通過國際合作，中國有望擷取更多先進技術，推動國産晶片産業發展。
雖然美國對華晶片技術封鎖給中國帶來嚴峻挑戰，但也加速了國内自主創新步伐。隻要堅持自力更生、自主創新，中國定能在晶片産業實作自主可控。