iPhone一直以來都存在拍照時的眩光和鬼影問題，但這麼多年一直沒有得到根本性的解決。最新消息是，蘋果已經準備在下一代産品中解決這個痼疾。
有消息表示，蘋果正測試新的抗反射光學塗層，以減少鏡頭炫光和鬼影等問題，進而提高照片品質。消息稱，蘋果正在考慮在iPhone相機鏡頭制造技術中，引入新的原子層沉積（ALD）裝置。
原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種基于連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，可以将物質以單原子膜形式逐層鍍在基材表面，進而極其精确地控制納米級的厚度和成分，可以在不影響傳感器捕光性能的前提下，有效保護鏡頭免受環境因素的損害。
目前 iPhone 鏡頭容易産生耀光，主要是外部強光會直接折射、反射和繞射到鏡頭内，才會造成相機模組到感光元件之間容易産生耀光情況，又加上現有的手機鏡頭抗反射塗層可能會遇到塗層不均勻，造成抗反射效果不佳。
原子層沉積是一種非常薄的工藝技術，其工藝原理有點像樂高積木，隻不過積木的厚度大概隻有原子般。ALD技術正是在多層原子薄膜的累積下沉積而成，是以能夠在球狀的鏡頭表面上，進行3D沉積薄膜。
據了解，通過使用這種新薄膜，iPhone 16系列能夠最大限度地減少鏡頭光線反射造成的鬼影、光斑、眩光情況，在實際拍照中能解決很多問題，尤其是在明亮的光源拍照場景中，取景器和最終照片中都能減少亮點情況。
據了解，這種新塗層，隻會使用在iPhone 16 Pro和iPhone 16 Pro Max中，兩款标準版機型并不會使用。不過也有消息表示，考慮到ALD工藝的複雜性和對生産線的要求，蘋果可能會在技術成熟并通過内部測試後，才會将其應用于大規模生産，是以iPhone 16系列幾乎可以确定不會搭載該技術。
目前解決iPhone拍照鬼影的最有效辦法還是通過調整拍攝角度的方式來實作，蘋果雖然在過去兩年用了一些算法手段來規避這個問題，但并沒有從根本層面解決鬼影。相反的是國産品牌在這方面一直表現不錯。比如vivo的拍照旗艦，就通過跟蔡司之間的合作，利用鍍膜等手段很好地解決了夜間場景下的鬼影、眩光問題。
目前iPhone新的鍍膜技術已經在研發之中，預計應該很快就會應用到新産品上。蘋果使用者吐槽多年的問題，終于可以緩解了。