随着現代科技的發展，晶片的重要性也在不斷提高當中，甚至可以說已經成為了核心産物以及戰略資源。在如今矽基晶片領域的晶片生産過程當中，光刻機可以說是無法繞開的重要裝置之一。
7nm及以下制程的先進晶片基本上都需要使用到EUV光刻機，而EUV光刻機目前僅有荷蘭的ASML可以規模制造出貨，除此之外就隻有佳能最新的5nm壓印裝置可以用于7nm以下的晶片制造，不過這款裝置如今還沒有開始規模量産。
此前美國就聯合日本、荷蘭限制了半導體裝置的出貨，尤其是光刻機，基本上38nm以下制程的光刻機都無法出貨。不僅如此，從目前的情況來看，美國正在考慮擴大光刻機的出口管制，甚至将光刻機的零部件以及維修服務也列入到限制當中，是以有美國媒體表示：光刻機事件就要塵埃落定了。
近些年來，中國芯的快速發展是有目共睹的，中國市場已經成為全球最大的晶片消費市場之一，在旺盛的市場需求推動之下，也有越來越多的企業開始進入到晶片賽道當中，這也推動了中國芯的技術和産能發展。
不過想要建設出完整的晶片産業鍊十分的複雜，尤其是在高端晶片領域，僅僅是光刻機這一項裝置就需要有5000多家零部件供應鍊廠商提供各種零部件，其中的零部件數量更是高達上萬種。
一直以來，國内的晶片代工企業都是以購買ASML的光刻機裝置為主，還有部分光刻機裝置來自于尼康、佳能等日企裝置廠商的出貨。從公開的資料來看，2023年我們從ASML進口的光刻機裝置數量超過了400台。
這也就意味着，如果美國真的限制了光刻機零部件出貨和維修服務，那麼我們高價購買的光刻機裝置就将面臨變成“廢鐵”或者是使用壽命大幅度縮短等情況的出現。這自然是難以接受的，是以不少中企都紛紛表示：如果購買來的光刻機無法使用，那麼就将要求ASML回購這些裝置。
不過最重要的其實還是要完成國産化替代，畢竟在華為被列入“實體清單”之後，不少中企就意識到要放棄對美西方企業的心存幻想，這次事件則是再次印證了“造不如買”這種思想的錯誤。是以，國内的裝置廠商也正在加速光刻機等半導體裝置的國産化替代。
如今不少中企或者是高校都投入了不少資金和人力用于光刻機尤其是先進的EUV光刻機技術研發，在這一領域當中也取得了不少技術突破。
事實上，除了光刻機之外，我們在其他半導體裝置領域也有着不小的發展，例如在離子注入機方面我們已經實作了28nm全流程覆寫，要知道離子注入機、光刻機、蝕刻機以及鍍膜機被稱為晶片制造當中最重要的四種核心裝置。
這也意味着在半導體裝置方面，中企的表現和技術突破超過了不少人的預測。從這種發展情況來看，我們想要完成半導體裝置的國産化替代隻不過是時間問題，從這一點來看，光刻機事件确實是要塵埃落地了。
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