随着现代科技的发展，芯片的重要性也在不断提高当中，甚至可以说已经成为了核心产物以及战略资源。在如今硅基芯片领域的芯片生产过程当中，光刻机可以说是无法绕开的重要设备之一。
7nm及以下制程的先进芯片基本上都需要使用到EUV光刻机，而EUV光刻机目前仅有荷兰的ASML可以规模制造出货，除此之外就只有佳能最新的5nm压印设备可以用于7nm以下的芯片制造，不过这款设备如今还没有开始规模量产。
此前美国就联合日本、荷兰限制了半导体设备的出货，尤其是光刻机，基本上38nm以下制程的光刻机都无法出货。不仅如此，从目前的情况来看，美国正在考虑扩大光刻机的出口管制，甚至将光刻机的零部件以及维修服务也列入到限制当中，因此有美国媒体表示：光刻机事件就要尘埃落定了。
近些年来，中国芯的快速发展是有目共睹的，中国市场已经成为全球最大的芯片消费市场之一，在旺盛的市场需求推动之下，也有越来越多的企业开始进入到芯片赛道当中，这也推动了中国芯的技术和产能发展。
不过想要建设出完整的芯片产业链十分的复杂，尤其是在高端芯片领域，仅仅是光刻机这一项设备就需要有5000多家零部件供应链厂商提供各种零部件，其中的零部件数量更是高达上万种。
一直以来，国内的芯片代工企业都是以购买ASML的光刻机设备为主，还有部分光刻机设备来自于尼康、佳能等日企设备厂商的出货。从公开的数据来看，2023年我们从ASML进口的光刻机设备数量超过了400台。
这也就意味着，如果美国真的限制了光刻机零部件出货和维修服务，那么我们高价购买的光刻机设备就将面临变成“废铁”或者是使用寿命大幅度缩短等情况的出现。这自然是难以接受的，因此不少中企都纷纷表示：如果购买来的光刻机无法使用，那么就将要求ASML回购这些设备。
不过最重要的其实还是要完成国产化替代，毕竟在华为被列入“实体清单”之后，不少中企就意识到要放弃对美西方企业的心存幻想，这次事件则是再次印证了“造不如买”这种思想的错误。因此，国内的设备厂商也正在加速光刻机等半导体设备的国产化替代。
如今不少中企或者是高校都投入了不少资金和人力用于光刻机尤其是先进的EUV光刻机技术研发，在这一领域当中也取得了不少技术突破。
事实上，除了光刻机之外，我们在其他半导体设备领域也有着不小的发展，例如在离子注入机方面我们已经实现了28nm全流程覆盖，要知道离子注入机、光刻机、蚀刻机以及镀膜机被称为芯片制造当中最重要的四种核心设备。
这也意味着在半导体设备方面，中企的表现和技术突破超过了不少人的预测。从这种发展情况来看，我们想要完成半导体设备的国产化替代只不过是时间问题，从这一点来看，光刻机事件确实是要尘埃落地了。
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