5月14日，财联社发布消息【上海光机所在EUV和软x射线首次实现结构涡旋光调控】
这等于是官宣光刻机里最重要的核心，极紫外光源被拿下了，国产光刻机研制再没有障碍。
我们先来看看财联社的消息原文：
财联社5月14日电，近期，中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室张军勇副研究员联合哈尔滨工业大学赵永蓬教授课题组和上海理工大学詹其文教授课题组，首次完成EUV和软x射线的结构涡旋光调控与实验验证，为极紫外和软x射线波段的结构光刻、结构分束调控，和短波超分辨成像开辟了可行的技术途径。相关成果以“Producing focused extreme ultraviolet vortex with Fermat-spiral photon sieves”为题，发表于PhotoniX。
极紫外光，又称极端紫外线辐射，它在极端高温下产生，自然界中它产生于太阳的日冕。但是它却无法到达地表。因为它有极强的电离能力，无法穿越地球大气层，只能在真空里传播。
太阳常数1361w/m²，就是说每平方米地球表面接收的太阳能量高达1361瓦，相当于一平米一小时接收1.361度电的能量。但是太阳光中能量极高的极紫外线不能穿透大气层，所以到地面的太阳能打了折扣 。这也是科学家希望到太空中建设太阳能发电站的原因。
极紫外线人工产生方法条件苛刻。
之前欧美用了10多年的时间进行研究，才最终确立了一个主要的发展方向，得到13.5纳米的极紫外光，从而实现光刻，这种光的波长只有头发直径一万分之一，能量非常大。
要制作功率足够大的极紫外光，其实是一件极其困难的事情。阿斯麦并不是仅靠自己一家公司就实现的，它的供应商有数千家。
其中最核心的光源部分，大多不是阿斯麦自己的技术。美国Cymer公司（阿斯麦的子公司）负责光源，除此之外，还需要两家德国公司，其中通快公司的专长是：二氧化碳激光器，德国蔡司的专长是：生产超级光滑的镜子。
结合这些高科技含量的技术，最终才能得到极紫外光，并进行光刻。
客观地说，阿斯麦的EUV光刻机应该是人类有史以来最复杂的设备了。
极紫外线光刻机对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。
目前极紫外线式（EUV）光刻机，全部由阿斯麦掌握核心技术。
具有讽刺意味的是，仅仅在此5天前，美国还在沾沾自喜，认为自己将继续垄断高端芯片制造。
5月9日消息，根据美国半导体协会的最新报告，随着美国“芯片法案”的推动，预计到2032年，美国在全球10nm以下先进制程芯片制造中的份额将达到28%，而中国大陆的占比可能仅为3%。美国为中国大陆的9倍。
这份报告的依据就是中国无法突破极紫外线光刻机的制造。哪知道中国人不信邪，反转来的如此之快。
加油中国！