前言
面对美国多年对大陆芯片研发的打压和制裁，中国硬是凭借一己之力突破围堵和封锁，在芯片研发领域有了一席之地。
美国怎么也料不到，封锁了这么多年，中国科技非但没有被扼杀在摇篮内反而愈加蓬勃发展，原本要依赖国外芯片制造的设备如今逐渐实现国产替代化。
这就意味着，中国照常发展下去，在芯片研发领域可以完全实现国产化供应，自给自足，先进制程的芯片也会被完全攻克。那时美国想要打压也是心有余而力不足了。
六家中企联合宣布，芯片问题只差一步了
近日中国芯片研发领域的传来了一个又一个好消息，最让人振奋的莫过于六家中企联合宣布：芯片制造设备光刻胶将要实现7nm以上制程芯片的量产了。
要知道光刻胶是在芯片制造阶段不可或缺的一环，其地位可以光刻机相比较，多年来大陆的中高端光刻胶技术要依赖进口。
其中进口最多的国家是日本，经统计2022年的进口总额达到23.5亿美元，日本进口额12.05亿美元，占比一半以上。
光刻胶在芯片研发制造中图形转移、尺寸和集成度以及工艺精细度等方面发挥着重要作用，其性能的好坏能直接影响芯片的质量、性能以及制造成本。
此外，日本对华供应与芯片研发密切相关的材料设备必然会受到美国“实体清单”的限制和要求，2023年业内就有消息称，日本对大陆某存储晶圆厂停止供应KrF光刻胶。
所以在如今的芯片发展局面下，长期依赖海外进口并不是长远之计。唯有自主创新，畅通芯片研发领域所有的艰难险阻，才能真正掌握核心技术，不让别人卡住发展脖子。
在国家和企业的不懈努力下，中芯国际、华为海思、紫光等六家高科技企业宣布：实现中高端芯片国产替代化就差临门一脚。
光刻胶技术取得重大进展，美国慌了
光刻胶国产化似乎不再是梦想，这一消息给予中国科技的发展极大的鼓舞，同时也让美国心慌意乱。
虽然大陆目前在光刻胶生产领域有了重大突破，但是光刻机技术和高端芯片研发技术与世界顶尖水平仍然存在距离。
目前的国产芯片基本能满足国内智能科技的需求，但是还远远不够，要想科技实力获得质的飞跃，先进制程的芯片是必不可少的。
高端光刻机也要随之匹配，中国的光刻机基本依靠海外进口，尤其是与荷兰的ASML公司有着长期的合作伙伴关系。
美国几次向荷兰政府下达禁令，限制中国供应先进光刻机，打着维护国家安全的借口行霸权主义之实，ASML公司自然看清美国的嘴脸。
同时他们也会衡量中国市场日后的发展前景，即便美国以各种手段搅黄二者的合作也无济于事。
中国在科技道路上坚定发展的决心永远不会动摇，如今EUV光刻胶的突破就是最好的证明。在面对国产芯片断供的问题上，中国再次发力突破技术封锁，摆脱了对美国的依赖。
全球化背景下，自主创新才是硬道理
纵观21世纪科技发展史，就会发现信息技术的突破给世界带来多么大的变化，计算机技术多极化发展趋势一直是世界潮流的体现。
国家间正因为相互进行技术合作交流，人才的内外流动、企业的联合研发以及国际市场上良性的切磋等等，世界科技才得以马不停蹄的没向前发展。
可是总有一些国家因为一己私利、一时的先后对他国实行技术封锁和打压，只想搞一国独大的垄断局面。
这种“专制”式的思想让很多并行的国家苦不堪言，错了许多发展的良机，最后默默沉寂几十年，不得不长期依赖海外进口。
中国早就深谙世界科技发展的本质，知道无论面临多大的困难都不能放弃自主研发的道路，不能放弃攻坚克难的决心和毅力。
所以即使在科技和经济遭到全面封锁和围堵时期也不卑不亢，举国上下团结一心，高科技中企都有的一种民族和家国情怀，明白国家利益与安危始终要高于个体的私利。
核心技术进入瓶颈期，就加大研发投入，尽快提升自主创新能力。产业链存在缺失就努力优化政策支持、加强与友好国家的合作交流。
也就是靠着一点点的摸索以及踏实的钻研，靠着无数个科学家们日日夜夜的努力才有了今天的科技成果。
结语
面对当今世界芯片技术领域的发展局面，我们不仅要有计划、有方法的做好应对风险的措施准备，还要努力提高国家综合实力。
因为唯有全面发展，均衡发展才是持久之计，在得知取得重大科技成果的同时也要谦逊的认识到自身的短板，然后不断改进与提升。