10台 EUV光刻机将引进，但台积电已开始“截胡”！众所周知，由于美国对华为的打压，所以导致华为无法获得美国方面对芯片的出口许可，而在美国企业台积电的帮助下，我们也在今年的5月份实现了对华为一款 EUV光刻机设备的出口许可。而对于我们来说，想要实现10台 EUV光刻机设备的出口需要耗费大量资金。为此，华为还曾计划在美国建立一个生厂 EUV光刻机设备的工厂。
中国制造 芯片 半导体 手机芯片 汽车芯片
但是，由于美国方面的限制，所以这一计划也只能停留在纸面上。而就在近日，有消息表示，大陆已经开始计划引进10台 EUV光刻机设备。而这10台 EUV光刻机设备的价值高达14亿元人民币，对于这样一笔巨款来说，我们也希望通过引进 EUV光刻机来解决大陆芯片制造方面的难题。但是从台积电方面来看，我们的10台 EUV光刻机设备已经开始准备进口了。据悉，台积电已开始“截胡”华为10台 EUV光刻机设备的计划了。
微处理器芯片。像这样的芯片被用作计算机的中央处理器cpu。
而台积电之所以会对华为这一系列芯片制造计划做出“截胡”的举动，主要是因为台积电需要通过芯片设计公司来实现在7 nm、5 nm以及3 nm芯片制造工艺上的突破，从而帮助台积电进一步扩大自己晶圆代工方面的业务。而为了能够让自己更快的进入到7 nm和5 nm芯片制造工艺中来，台积电不仅会为客户提供生产 EUV光刻机设备的相关技术，而且还会给予更多优惠方案。当然，作为一家专业制造晶圆代工的企业，台积电在技术方面一直都处于领先地位。而就算是在生产技术方面处于领先地位的台积电也没有向华为购买 EUV光刻机设备的打算，而这无疑是给了美国一个不小的打击。而作为一直都在努力研发芯片制造工艺的大陆来说，想要通过购买 EUV光刻机设备来解决大陆目前在芯片制造方面面临的难题的确是非常困难。
集成电路
而就在前不久，有消息表示华为的一款海思芯片就已经成功应用到了5 nm工艺上，而这无疑是对美国的一个很大打击。但是，对于华为来说，想要在短时间内解决大陆目前所面临的芯片制造难题的确是非常困难。因为对于我们来看，想要在短时间内解决芯片制造难题并非是一件容易的事情。毕竟对于大陆而言，目前最大的挑战还是在制造工艺上。虽然现阶段大陆已经在5 nm、3 nm以及2 nm工艺方面取得了不小的突破。
芯片 汽车芯片
但是，想要实现7 nm、5 nm以及3 nm工艺的突破还是非常困难的。而就在近日，大陆又传来了一则好消息。据媒体报道，大陆的上海微电子公司已经成功突破了5 nm芯片制造工艺中的一项关键技术。而这项技术的攻克成功，也意味着大陆在5 nm芯片制造工艺方面将会有更多突破。不过，在实现突破之前还需要对7 nm以及3 nm集成电路做好准备。
电脑晶片芯片关闭。
而从我们国家的发展趋势来看，想要在短时间内完成7 nm、3 nm工艺的突破也并非是一件容易的事情。所以，想要在短时间内攻克7 nm以及3 nm工艺是非常困难的。而我们国家的芯片制造企业虽然也已经有了不少进展，但是想要在短时间内突破7/3/2 nm工艺还是非常困难的。所以说，目前我们国家想要在短时间内解决芯片制造难题也是比较困难的。而对于我们国家来说，如果想要在短时间内解决芯片制造难题，就需要从其他方面入手了。
旧的电子芯片和元件
而从国内科技企业来看，大陆目前已经有不少研发实力非常强的企业开始研发芯片。而这一次，中国电子科技集团更是一举拿下了国家大基金二期的“芯片制造与先进封装技术”项目，并且还将会在5年内为芯片设计企业提供1000亿元人民币的支持。而这一次，我们国家所取得的成绩也足以证明目前国内在芯片制造方面已经开始取得不错成果了。而就是因为有了国内科技企业的加入，所以也为大陆在短时间内攻克芯片制造难题提供了不少保障。从目前大陆所取得的成绩来看，想要短时间内解决芯片制造难题也并非是一件容易的事情。