国产光刻机什么进展了？
其实，在国产光刻机正式进入商用之前，能把现有的进口光刻机的配件国产自主可控，一步一个台阶。
在光刻机的配件和耗材领域，有一个环节叫涂胶显影。
涂胶显影设备一直依赖进口，知道芯源微进入这个领域。
2008年“02重大专项”实施以来，成功突破了包括凸点封装工艺相关的超厚光刻胶膜的涂覆、显影、 单片湿法多工艺药液同腔分层刻蚀以及 193nm（ArF） 光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷、精细化显影、精密温控热处理等在内的多项核心关键技术，开发出国产涂胶显影设备并实现量产，成功打破国外厂商垄断，大大降低了国内客户采购成本和对国外设备的依赖。
据公司年报，公司生产的前道涂胶显影设备可实现和多种主流光刻机联机运行， 比如ASML、 Cannon、 Nikon等。
星空君研究了下公司的年报，发现客户比年报数据更有意思。
1、在前道涂胶显影领域，作为国产化设备已逐步得到了应用，实现了小批量替代。
2、在前道物理清洗领域，2021年获得中芯国际、上海华力、武汉新芯、厦门士兰集科、扬杰科技、青岛芯恩、上海积塔等国内多家Fab厂商的批量重复订单。
3、在后道先进封装领域，批量应用于台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、中芯绍兴、中芯宁波等国内一线大厂，报告期内开拓了日月光、矽品科技、盛合晶微等封装客户。
4、小尺寸涂胶显影设备与单片式湿法设备，覆盖化合物、 MEMS、 LED等多个领域，作为主流机型已批量应用于三安光电、华灿光电、乾照光电、赛微电子、江西兆驰等国内一线大厂，已经成为客户端的主力量产设备。
2021年度，公司实现营业收入82,867.25万元，较上年同期增加152%，实现净利润7,734.95万元，较上年同期增加58.41%。
作为最重要的赛道的关键节点的企业，掌握自主可控核心技术的芯源微，业绩并不重要，随着国产化进程的加快，越来越多的芯片企业会采用公司的产品，同时整个产业链在大基金的扶持下，茁壮成长。
芯源微全部员工636人，其中研发团队120人，星空君查到了他们一部分核心工程师的照片。
90后为主，年轻，阳光，积极向上。
星空君认为，芯片行业表面上是技术代差，但本质上是人才密集型行业。中国有足够大的市场，有足够优秀的人才，有足够多的资金，剩下的，只需要一点点时间。
正如ASML首席官彼得·温格宁公开言论：如果美国继续芯片断供的决策，将会迫使中国加速实现技术自主，不出15年时间，中国将拥有一切。
现在看，也许用不了15年。