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轉載--鍋爐脫硝氨逃逸大控制政策

作者:虹電力

來源:熱控圈

1、氨逃逸高的原因

氨逃逸是影響SCR系統運作的一項重要參數,實際生産過程中通常是多于理論量的氨到達反應器,反應後在煙氣下遊多餘的氨稱為氨逃逸,氨逃逸是通過機關體積内氨含量來表示的。

為了達到環保要求,往往需要一定過量的氨,是以也對應着會有一個合适的氨逃逸值,該值設計為不大于3ppm,但是往往實際運作中偏大,主要有以下因素:

1)每隻氨噴槍噴氨流量分布不均,煙氣中存在氨水局部分布不均,煙氣流速不均勻,各噴槍出口的噴氨量差異較大,濃度高的地方氨逃逸相對高一些。

2)煙氣溫度,反應溫度過低,NOx與氨的反應速率降低,會造成NH₃的大量逃逸,但是,反應溫度過高,氨又會額外生成NO,如果溫度過高過低達不到反應效果,勢必增加氨逃逸。

3)催化劑堵塞,脫硝效率下降,為了保持環保參數不超标,會噴更多的氨,這将引起惡性循環,催化劑局部堵塞、性能老化,導緻催化劑各處催化效率不同,為了控制出口參數,隻能增加噴氨量,進而導緻局部氨逃逸升高。

4)霧化風量偏小,噴槍霧化不好,氨水與煙氣不能充分混合,将産生大量的氨逃逸。

5)氨水濃度,氨水濃度配置,濃度高低無法受控,憑着感覺配置,就目前鍋爐而言,基本上氨水濃度高,氨水調閥開度過小,霧化不好易自關,導緻氨逃逸高,操作難度大。

6)燃燒波動時,SNCR入口煙氣中的NOX濃度大幅波動,往往會加大噴氨量,機械地實作“達标排放”,過量的氨水,可導緻氨逃逸增加,直接危及爐後裝置和系統安全運作。

2、對氨逃逸的控制

1)對于噴氨流量分布不均造成的氨逃逸偏差,可以通過調整氨水噴槍前的球閥控制,在平時操作中盡可能使旋轉噴槍槍頭朝下,增加反應時間,每隻槍噴氨分布均勻(其操作看壓力降),NH₃與NO充分反應,降低NH₃/NO摩爾比,進而降低氨逃逸,達到脫硝效率與運作費用的平衡。氨逃逸濃度增加還與氨水噴槍噴嘴密切相關,當氨水噴槍噴嘴堵塞時将加劇逃逸氨的産生,應在鍋爐運作過程中檢查氨水噴槍,及時疏通或更換,確定氨水噴槍正常投運。

2)煙氣溫度決定着SNCR和SCR的反應效果,進而影響氨逃逸的大小。煙氣溫度變化幅度大,在低負荷時,煙溫下降,局部煙溫太低,會引起催化劑活性下降,進而引起氨逃逸升高,本脫硝所選用的催化劑在315~380℃範圍為最佳,是以要根據鍋爐負荷和燃燒情況在滿足的條件下維持煙氣溫度在最佳範圍内。煤粉專燒時,SCR反應器溫度達到345℃左右,能很好滿足氮氧化物與氨水反應條件,SCR反應器反應效率提高,SCR反應器出口氮氧化物及氨逃逸濃度偏低,氮氧化物濃度平均達到60mg/m3,氨逃逸濃度平均達到2.8ppm;瓦斯混燒時,SCR反應器溫度隻有300℃左右,此時通過鍋爐配風調節提高鍋爐火焰中心位置或通過增加上層瓦斯槍瓦斯量提高SCR反應器溫度的方法,降低SCR反應器出口氮氧化物及氨逃逸濃度。

3)催化劑存在着使用壽命,一旦使用時間過長老化,催化效果就會變差,脫硝反應也會變差,為保證環保合格的情況下大量噴氨就會造成氨逃逸增加,是以當催化劑老化時要及時在停爐大小修時進行更換,保證氨逃逸合格的同時,也能更好做好環保。

4)燃煤鍋爐,脫硝反應區處在高灰塵區,會在反應區積累灰塵,積灰将會使反應變差,氨逃逸增加。鍋爐運作過程中SCR反應器每周至少吹灰一次,清除SCR反應器積灰提高SCR反應器效率,降低氨逃逸濃度。

5)霧化風對于脫硝反應明顯,也直接決定着氨逃逸,而氨水能否充分的霧化與風量成正比關系,為提高氨槍霧化效果,需提高壓縮空氣壓力在350kpa以上。

6)當鍋爐燃燒擾動時要及時根據脫硝反應器入口的NOx含量對氨水進行調整配置設定,防止氨逃逸過大或兩側偏差大,甚至因為調整不到位帶來的環保超标問題。鍋爐負荷變化會導緻鍋爐煙氣量、煙氣溫度及SCR入口濃度變化。當鍋爐負荷降低時,煙氣量減少,煙氣中氮氧化物含量降低使得SCR反應器内流速降低,煙氣在催化劑上停留時間增加,提高了脫硝效率,進而降低了氨逃逸濃度。

7)其他影響因素及防範

鍋爐煙氣在SCR反應器停留時間為0.1~0.2s,為使鍋爐煙氣中殘留氨水與煙氣中的氮氧化物在催化劑作用下有足夠反應時間,降低鍋爐SCR反應器出口氮氧化物、氨逃逸濃度,通常選擇降低鍋爐爐膛負壓的方式進行,鍋爐運作過程中鍋爐爐膛負壓控制在-30~-50Pa之間,鍋爐燃燒穩定,在SCR反應器出口氮氧化物達标排放前提下、氨逃逸濃度能有效控制。當氨逃逸過大不好好控制的話會生成的硫酸氫铵,不僅會造成催化劑層的失效和空預器堵塞,更會造成更大的嚴重問題,腐蝕裝置降低壽命。

總之,合理控制鍋爐SCR出口氨逃逸濃度能有效預防鍋爐空預器堵塞及減輕氨水對下遊裝置的腐蝕,SCR脫硝裝置在運作過程中應對氨逃逸應予以高度重視。鑒于此,有必要加強SNCR、SCR運作階段科學調控,将SCR裝置的氨逃逸率控制到3ppm左右,甚至以下,減輕氨逃逸後硫酸铵或硫酸氫铵生成對爐後裝置的影響。