衆所周知，目前的晶片制造，基本上是基于光刻工藝，是以必須用到光刻機。
而光刻機又晶片工藝制程對應，如下力所示，比如G線、i線對應的是350nm及以上的晶片工藝，而KrF對應的是350-130nm。
ArF對應的是130-65nm；而ArFi是ArF的改進版，也稱之為浸潤式DUV光刻機，對應的是65-7nm；EUV是極紫外線光刻機，對應的是7nm以下。
目前，全球的光刻機市場，主要被荷蘭的ASML壟斷，ASML一家就占了全球90%的份額。其中先進的ArFi光刻機，ASML占了95%，EUV光刻機，ASML占了100%。
日本的尼康、佳能更多的隻是ArF、KrF這些較為成熟的光刻機，佳能沒有ArFi光刻機，尼康沒有EUV光刻機，而ArFi光刻機，也非常少，主要市場還是ASML的。
而中國上海的微電子，水準還在ArF，工藝制程在90nm，是以國内一直以來就是大量采購ASML的光刻機。
美國之前是不允許ASML的EUV光刻機賣到中國大陸來，是以至今為止，中國大陸的晶圓廠，都沒有EUV光刻機。
後來，美國更想鎖死中國大陸的邏輯晶片工藝在14nm，于是又聯手日本、荷蘭，對光刻機進一步限制。
其中日本表示所有的浸潤式光刻機，都不能出口到中國。而荷蘭的ASML則表示，所有的浸潤式光刻機中，隻有一台NXT:1985Di能出口。
後來在2023年10月份，美國禁令再次更新，ASML唯一一台能夠出口的NXT:1985Di也被禁了，無法再出口到中國大陸來了。
不過ASML也稱，2023年他們還是拿到了許可證，是以2024年内，所有的浸潤式光刻機都能夠賣到中國大陸來，但2024年開始，就不行了，是以目前ASML的浸潤式DUV光刻，EUV光刻機，正式斷供了。
是以我們看到，2023年内，中國大陸在大量的從ASML進口光刻機，資料顯示，1-11月份，中國大陸向ASML進口的光刻機金額已經超過了500億元，是2022年的3倍左右。
很明顯，中國大陸在趁着ASML還能出口浸潤式光刻機，瘋狂大采購，瘋狂囤貨，畢竟2024年開始，浸潤式光刻機就買不到了。
按照業内人士的預測，今年從ASML采購的光刻機，理論上能夠支撐國内3年左右的晶圓擴産需求，但3年之後，甚至也可能不需要3年，可能就會又缺光刻機了，特别是缺尖端光刻機了，比如ArFi、EUV這兩種。
是以接下來，國産晶片想要突破，就需要國産光刻機突破了，因為ASML短時間之内，是拿不到出口許可證的，浸潤式ArFi光刻機、EUV光刻機應該隻能靠我們自己，不要想着進口了。