半导体核心技术的研发一直是国产科研的重点，而其中有关于光刻机的科研工作更是重点中的重点。光刻机大家都不会陌生，就是用来芯片制造芯片的半导体设备。
关于它的工作流程也有很多资料可以查询，可是要想实际掌握先进光刻机的生产制造技术就不是说说而已了。还必须脚踏实地，日积月累才能看到成果。
好消息是，北大突破了一项事关EUV光刻机的核心技术，还被列入2021年中国半导体十大研究进行展示。具体是怎样的研究成果呢？ASML该着急了？
北大破冰EUV光刻机核心技术
光刻机也是有很多种类型的，在不同的芯片制造工艺中，也会用上各类型号的光刻机。而技术最先进，生产难度最高的光刻机就是EUV光刻机。
一台设备价值1.2亿美元，还不是有钱就能买到的。EUV光刻机看似是ASML公司生产的，可实际上在这台设备的背后是全球60多个国家组成的EUV联盟。
许多国外巨头各自出力，要么提供先进零部件设备供货，要么提供软硬件等诸多知识专利技术授权。如果想独立造出EUV光刻机，不仅要开辟出全新的路径，绕开国外专利技术壁垒，而且还要有足够的人才科研团队。
难度就好比左脚踩右脚一步步上天，每一步都很难，甚至是一直在原地踏步。可是有多少大国重器就是实现了从0到1的突破，单纯左脚踩右脚上天的确不现实，但是却可以用智慧造出工具，去实现遥不可及的目标。
研发光刻机也是如此，看起来距离最终的目标很遥远，可是当有了相应的技术突破后，便能一步步接近目标。而北大传来好消息，突破了事关EUV光刻机的核心技术。
在公开发布的《半导体学报》中，对外展示了中国2021年十大年度半导体研究进展，其中北大的突破也赫然在列。
报道信息显示，北大量子材料科学中心高鹏研究组实现扫描透射电子显微镜技术突破，并在此技术的支持下，完成四维电子能量损失谱技术的研究。
这是怎样的研究成果呢？这项突破指向EUV光刻机技术的光学物镜，作为EUV光刻机的核心技术之一，光学物镜对谱系技术的掌握是十分关键的。
EUV光刻机能发挥出怎样的镜头孔数很大程度上都依托于光学物镜。而北大实现的扫描透射电子显微镜技术也是这个方向领域的研究。也就是说，北大立下大功，为国产光刻机将来的研发进步提供了更多的支持。
ASML该着急了
光刻机技术的研发是需要长期的刻苦钻研，从人才团队的培养，到技术的攻克，再到形成产业化的布局，这一系列的过程都得努力向前。
ASML并不是独立造出EUV光刻机的，在它的背后是来自全球产业链的力量。日本的光刻胶、德国蔡司的镜头、美国的光源设备等等核心技术都用在了一起。
如果用时间来看的话，这些国家研发核心技术花费的时间叠加在一起，就不是短短几年，十几年那么简单。但前面也说了，技术是一步步积累，靠一代又一代人的长期刻苦钻研出来的，没有一步登天，只有脚踏实地。而随着北大的技术突破，ASML估计也该着急了。
ASML认为中国一定会去尝试突破光刻机核心技术的，并且说过如果不卖光刻机给中国，多年后中国将掌握这项技术。
ASML正在生产更多的EUV光刻机，可是国外一些规则的存在让ASML无法自由出货EUV光刻机，拿到许可的可能性不太高。
ASML既想做更大的生意，但又怕客户市场们将来掌握了自主技术，实现最终的突破，到时候即便ASML拿到了许可，还能不能实现设备销售额的指数增长，就说不准了。
所以ASML正在努力寻求可自由出货的门径，可实际情况来看，实现自由出货和客户市场掌握核心技术这两件事情上，后者的概率会更高。
北大立功就是最好的表现，而且不只是这一项突破，上海微电子也成功交付中国首台2.5D/3D高端先进封装光刻机。虽说是封装光刻机，可也是国产光刻机的一大进步。只要这样的进步再多些，量变引起质变，集中力量在一点上，再高的山峰也能攀爬。一切从无到有都是需要付诸努力的。
写在最后
国产光刻机任重而道远，不奢求在短时间内就达到可独立生产EUV光刻机的水准，但只要不断前行，筑造自主知识技术产权体系的城墙，形成自有的核心技术，就能进一步向目标靠拢。
ASML似乎已经开始着急了，向中国市场努力寻求自由出货的途经，担心国产光刻机实现最终突破，到时候国产化技术将顺利崛起。
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