中国科学家太给力！国产芯“曙光”来了。
近年来各个省份、高校都加大对半导体产业的研究，按照这种趋势，实现70%的芯片自给率指日可待。
随着半导体产业研究的火热兴起，在科学家们的不懈努力下，第三代光刻机被攻克了。
攻克第三代光刻机有何难度，它又有什么意义？
随着科技的发展，半导体材料也急速发展。
从第一代的半导体材料硅开始，到第二代砷化镓、磷化铟，如今半导体材料已经进入以氮化镓、碳化硅为主的第三时代。
如今第三代半导体材料拥有更好的导热性能、更稳定的化学性能，也提供给人们更安全便利的生活方式。
而用不同的半导体生产出来的芯片，所需要用到的设备也不同。
光刻机就是生产芯片将要用到的机器之一。
芯片的生产是一个复杂的过程，它需要光刻机在芯片上进行光刻，此外还需要离子注入机、清洗机、刻蚀机、显影机等，各种设备相互配合，才能产生机器设备所需的芯片。
此外，在生产高端芯片的过程中，还会用到重要且昂贵的设备，如13.4nm波长的极紫外EUV光刻机。
即光刻机对芯片生产非常重要，而半导体材料对光刻机的生产也非常重要，但自从第三代半导体材料问世后，大陆就一直没有突破第三代半导体设备。
如今，“第三代半导体光刻机”的碳化硅激光剥离设备成功被大陆科学家攻克，标志着大陆实现了国产第三代半导体设备突破。
这一次突破，主要得益于中电科二的研究。
激光垂直剥离设备优势非常明显，它可以大幅度降低工艺损耗，提高第三代半导体材料碳化硅的材料利用率。
同时通过激光垂直剥离设备还可以提高工艺生产的速度和效率，降低生产成本，为大陆生产碳化硅芯片产品提供极大的优势。
因此设备主要用于剥离割切第三代半导体碳化硅材料，它也被称为“第三代光刻机”。
虽然芯片行业生产工艺中最先进的还是DUV，EUV光刻机，但激光垂直该质剥离设备成功攻克，对大陆依旧具有重大的意义。
那么碳化硅激光剥离设备实现的意义是什么？
我们都知道科技的核心技术一般都掌握在外国人手中，半导体也不例外。
外国掌握第一代半导体的材料和相关技术，但大陆也不落后。第三代半导体材料出现后，立刻引起大陆企业的重视。
不少半导体企业都十分注重半导体行业的发展，尤其在氮化镓，碳化硅及氧化梓等半导体材料上，更是想方设法先人一步，实现技术突破。
因此说中电二科的突破，是具有非常重大意义的。
第一：它让国产激光剥离设备积累了更多经验，给国产芯片带来光明的前途
在大陆技术还没突破前，大陆的企业一般采用的都是国外的机械设备，按理说如果一直能够和睦相处的合作，倒也不失为一种好事。
但是芯片市场变化太大了，尤其是掌握了核心技术的企业。有了技术，就等同于有了底气，在没有法律强制的约束下，价格、成本的市场非常容易被破坏。
中电科二的成功，成功让国产技术积累了经验，降低对外国技术的依赖性，提高了企业的谈判资本。
第二：提高生产优势
大陆鼓励第三产业和科技产业的积极发展，国内的许多企业也是在第三代半导体材料的基础上发展创新。
第三代半导体可使用范围非常广，在新能源汽车、轨道等都能广泛应用，因此它的需求量非常大。
经过科学家们的不断开发，半导体材料基本有了明确的用途，因此很多企业也积极将其投入生产。
投入生产并不是一件容易的事情，它需要相应的设备，这也是我们必须依赖外国技术的原因。
现在我们自己的技术得到突破，就能给第三代半导体材料生产提供技术优势，也能给企业提供生产优势。
因此，国产激光剥离设备的突破对大陆而言是非常重要的，它不仅是大陆半导体科技的进步，也为行业的发展提供经验和技术，更是推动了大陆半导体生产行业的发展。
现在随着大陆各省各校对半导体科技的重视，未来大陆将突破一个又一个难关，走在世界高精尖半导体产业前端！