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ASML是全球市值最高的半导体设备公司，仅靠出货光刻机设备就成为了芯片制造行业的领头羊。即便是世界第一，第二的芯片制造商都需要从ASML手中购买光刻机设备，才能实现芯片制造生产。
而ASML还在进步，在新一代EUV光刻机中，ASML态度明确，拟计划提前量产。ASML等不及了？什么原因促使ASML提前量产新一代EUV光刻机呢？
关于新一代EUV光刻机，ASML态度明确
EUV光刻机号称是“工业皇冠上的明珠”，这句话其实一点都不夸张，能够造出EUV光刻机，绝对是人类工业史上最伟大的成就之一。
它能够以13.4nm波长的极紫外光，对晶圆进行纳米级别的曝光，把几百根晶体管线路光刻在指甲盖大小的芯片上。这就好比在一枚硬币上刻画出一座大型城市，每个细节都必须完美复刻。
这绝非一般的机器能够做到的，这就是EUV光刻机带来的极致芯片制造表现，它仅掌握在ASML一家公司手中。
但ASML还在追求更高，更先进的新一代NA EUV光刻机。ASML已经在研发下一代版本的EUV光刻机了，这台机器如果实现量产并交付，那么将给芯片制造商带来更大的芯片制造技术突破。
甚至能帮助台积电，三星等巨头们实现3nm芯片的制造，因此这也是冲击芯片更高端技术的重要设备。
按照计划，新一代EUV光刻机会在2024年量产交付，不过关于新一代EUV公开，ASML的态度很明确，那就是要尽早将机器生产出来。于是ASML计划提前量产，预计从2023年就开始步入量产阶段。
既然是新一代EUV光刻机，自然不可能一点改变都没有。首先是在价格方面，NA EUV光刻机造价高达3亿美元，现款EUV光刻机造价1.2亿美元，价格相差了3倍左右。其次是在光圈镜头方面，从原来的0.33转变成0.55光圈，带来更细腻的分辨率表现。还有能够大幅度提升精准度，晶体管密度等等。
这些工艺升级都将推动人类芯片技术的再一次跃进，恐怕目前旗舰级别的5nm芯片，到了四五年之后将遍地都是了。
不只是智能手机，电脑实现5nm芯片制程的应用，包括一系列的工业物联网，智能汽车以及人工智能等产业，都会用上5nm制程的技术。
而到了四五年之后，智能手机等电子消费产品多半已经升级到3nm及以下制程的工艺了。能实现如此大的产业进步，离不开ASML对新一代NA EUV光刻机的研发。
ASML为何等不及了？
ASML新一代光刻机的性能表现自然是不用怀疑的，就目前的EUV光刻机而言，已经实现了数代高端芯片制程的芯片，帮助台积电，三星完成对客户高端芯片的代工。
但是还不够，台积电，三星都有生产3nm芯片的规划，三星甚至还完成了3nm的流片，距离量产又更近了一步。
台积电作为全球第一大芯片制造商，肯定不会错过3nm芯片时代。到时候普遍版本的EUV光刻机可能就不适用了，这要求ASML打造出更先进的设备。
ASML本质上也是商业公司，研发设备的最终目的是实现对客户的出货，这有助于ASML迎来更好的发展。因此，基于客户的需求和自身的发展需求，ASML才有些等不及了，计划提前量产新一代EUV光刻机。
如果ASML在2024年进行NA EUV光刻机的量产，那么未必能跟得上台积电，三星的发展节奏。
他们需要提前让设备落地，进行安装，调试，还有进行专门的工程师培训。新设备不可能到货就直接上手，必然需要时间来适应。然后采用新设备试产芯片，提升良品率，最终进入到商用阶段。
这期间耗费的时间都不少，要是ASML新一代EUV光刻机迟迟不到货，那么所有的计划日期都要延后。这也是促使ASML提前量产新一代EUV光刻机的原因。
由于造价的问题，一般的企业根本没有能力负担设备采购费用。本来建设一条高端芯片生产线就造价不菲了，如果在采购设备方面花费更大的成本，那么造出来的芯片价格也会水涨船高。
不过这不是ASML考虑的问题，只要能把设备造出来，是不愁没有客户的。英特尔已经确认首发NA EUV光刻机的企业，为了这个首发，所需要付出的代表肯定是不小的。
这也证明不止有一家厂商对ASML新一代EUV光刻机感兴趣，就看谁能用这台设备，造出更先进的芯片了。
总结
ASML等不及了，提前量产NA EUV光刻机的态度很明确。因为客户的工艺在不断进步，若一直停留在普通版本的EUV光刻机技术，可能会导致EUV光刻机出现饱和的状态，能采购设备的客户都采购了。为了将来，ASML必须加速了。
对此，你有什么看法呢？
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