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攻克難關!全球首台2nm光刻機明年釋出,美國采購6台

作者:老劉說紀實

攻克難關!全球首台2nm光刻機明年釋出,美國采購6台

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誰還記得摩爾定律嗎?這項規律預言,內建電路上的半導體數量将每隔2年就翻一番,成就了今天數字世界的輝煌。如今,全球首台2納米光刻機即将面世,這意味着什麼?晶片制造業将迎來新時代!

攻克難關!全球首台2nm光刻機明年釋出,美國采購6台

ASML 公司攻克難關,2納米光刻機來了!

在半導體産業,光刻機就像農業裡的牛一樣重要。它決定着 acres 大的晶片“田地”能否高産豐收。多年來,荷蘭ASML 一直是這頭“奶牛”的主人。如今,他們再次發力,攻克了 2 納米工藝的難關,端出了全球首台2納米光刻機!這就像農業裡引進了新品種優良牛種,必将帶來新的增産迸發。

其實,從32納米到7納米,每前進一步都異常艱難。因為随着工藝的縮小,像凹透鏡、多光束等關鍵技術的難度成正比上升。這次ASML 研制2納米光刻機,更是不惜巨資,堪稱科技攀登的“珠穆朗瑪峰”。

不過作為世界第一牛,ASML 的光刻機産能并不高。業界預計全球每年2納米級裝置産出不足10台。是以這台首台機器可謂千載難逢,科技巨頭們肯定早早就蠢蠢欲動了。

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英特爾搶先下手,大手筆采購6台

果然,在ASML 的2納米“明星産品”還沒下線的時候,英特爾就忍不住了。這家全球最大的晶片制造商決定單獨配備6台 2納米光刻機用于未來生産。可以說,英特爾這一記“空手套白狼”,直接搶占了首台機器60%的份額。

這也難怪,英特爾這幾年在制程技術上吃了不少苦頭。從14nm起就沒能順利推出新工藝,而競争對手AMD卻基于TSMC 的研發實力迅猛追趕。孤塔已經沒有從前的威風,急需靠2nm工藝重新站穩腳跟。

有了2納米級裝置支援,英特爾就可以生産出更小、更快、更省電的晶片。相比之下,對手AMD 則需要繼續依賴 TSMC,在産能和研發上處于被動。這無疑是重創AMD 跟上英特爾步伐的努力。

當然,英特爾花重金也不是沒道理的。業内預計一台 2 納米裝置大約需要1.5億美元。6台下來就需要10億美金,連巨頭也不得不心疼。但相比鞏固霸主地位帶來的收益,這筆投資實在太值了。

2納米時代,中國面臨挑戰與機遇并存

對中國晶片産業來說,2納米時代的來臨也意味着機遇與挑戰并存。

首當其沖的問題,就是大陸與先進工藝還有一定差距。以14納米技術為例,關鍵裝置及材料國産化率才20%左右。這意味着中國晶片企業在采購上仍高度依賴進口。先進光刻機更是完全被美日公司壟斷。

不過ASML 2納米機器的出現也帶來新的契機。比如促進産業鍊上下遊的協同創新。在材料、裝備、設計、制造等環節,中國企業都迫切需要磨合配套能力。同時,引入的新技術也能激發國産裝置的研發活力,讓院所和企業進一步攻堅克難。

當然挑戰更大。短期内,中國晶片企業隻能跟進學習2納米工藝。但從長遠來看,發展具有自主知識産權的關鍵裝置和技術才是王道。在這方面,國内已經啟動了一批科研項目,目标就是突破光刻機等制約瓶頸。相信時間會證明,中國有足夠智慧和毅力完成這場更新換代。

攻克難關!全球首台2nm光刻機明年釋出,美國采購6台

針對2納米光刻機的釋出,筆者總結了幾個主要疑問:

1)ASML 這次到底攻克了哪些核心技術難題?相比之下,日本和中國又存在哪些短闆?

2)英特爾這次大手筆采購,是要針對AMD 的技術發展布局,還是應對移動internet 的産品需求?抑或兩者兼顧?

3)此次隻有英特爾購買了6台光刻機,中國企業為何無法像其競标或引進類似裝置?未來大陸在材料和裝置兩大短闆上還需要哪些突破?

顯然,業内和技術愛好者都對上述問題充滿好奇與探索欲。筆者在此就有限資訊進行簡要探讨,希望能引發更多讨論和思考。

這件事很快就在網上引起了網友的熱議。有網友認為,英特爾的大手筆采購充分顯示出其技術實力和雄厚資金實力。在制程技術上作出這麼大投入,也再次證明英特爾不會放棄晶片龍頭老大的地位。

也有網友認為,盡管目前中國在光刻機等關鍵制造裝置上還有差距,但這也是機遇。國内可以加快自主研發的步伐,争取填補技術空白。此外,學習和引進先進技術同樣重要,這要求産學研各界團結協作,争取盡快追趕國際先進水準。

還有一些網友則關注到環境污染問題。他們擔心精密的半導體工藝需要大量用水以及尾氣處理,這些都可能對所在地區的生态環境造成影響。有評論認為這需要政府和企業共同重視,制定環保标準并嚴格執行。

攻克難關!全球首台2nm光刻機明年釋出,美國采購6台

綜上所述,全球首台2納米光刻機的問世,标志着晶片制造技術正在加速疊代更新,邁向一個新的發展時代。

在商業應用方面,英特爾等頭部企業的大量采購,預示着2納米晶片有望在2-3年内實作規模化生産。這必将推動PC、手機等電子裝置性能新的飛躍。同時,它也将重劃入競争的天平,對AMD 等對手形成巨大挑戰。

就中國而言,光刻機等核心裝置的技術壁壘依舊存在。但随着産業鍊各環節能力的持續增強,自主研發的氛圍也将日益濃厚。此時此刻,中國企業更需要開拓性思維,主動作為,争取從引進技術到消化吸收再到攻關創新的成功跨越。

當然,我們也要清醒認識到差距仍存。從材料到裝置,一系列瓶頸仍有待突破。還需要持之以恒地投入,紮實做好基礎研究和自主創新。隻有這樣,中國晶片産業才能在新一輪科技革命中站穩腳跟,謀求更大作為。

當下,我們正處于一個科技變革的大時代。在此背景下,掌握核心工藝技術尤為關鍵。中美歐等在這一領域展開的角逐,也充滿未知數。

但可以确定的是,這場技術變革絕不會一蹴而就。它需要各國科技界和産業界的不懈努力。在中國,我們也需要更加緊密地團結協作,聚焦自主創新,堅定推進,方能搶占先機。

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