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2024剛開年，美國就對中國科技業開炮：在美方施壓下，荷蘭全球半導體顯影裝置龍頭艾司摩爾（ASML），宣布提前取消部分深紫外光（DUV）裝置出貨中國。重燃美中科技戰火重燃！對此，外交部發言人汪文努斥美霸道、霸淩，嚴重違背國際貿易規則。
美國對中國半導體産業的制裁，是一場持久的科技戰，也是一場關乎全球供應鍊和市場競争的博弈。美國的目的是阻止中國在半導體領域的發展，保護自己的技術優勢和國家安全。中國的反應是堅持自主創新，減少對外部依賴，争取在半導體産業中占有一席之地。雙方的角力，不僅影響了兩國的關系，也牽動了全球的半導體産業鍊和市場。
半導體是現代科技的基礎，也是未來發展的關鍵。半導體的制造，需要高精密的微影裝置，将電路圖案刻在晶圓上。微影裝置的性能，取決于光源的波長，波長越短，解析度越高，可以制造更小的晶片，提高性能和降低功耗。目前，微影裝置的主要類型有深紫外光（DUV）和極紫外光（EUV）兩種。DUV裝置使用193納米的波長，适用于較大的制程尺寸，如14納米以上。EUV裝置使用13.5納米的波長，适用于更小的制程尺寸，如7納米以下。目前隻有荷蘭的艾司摩爾（ASML）能夠生産和銷售。
美國作為半導體産業的上司者，擁有設計和應用方面的優勢，但在制造方面已經落後于台灣、南韓等地。美國擔心中國在半導體産業中的崛起，将威脅其技術優勢和國家安全，是以采取了一系列的制裁措施，限制中國獲得先進的微影裝置和晶片。美國還施壓其盟友，如荷蘭、日本等，要求他們不要向中國出口半導體相關的裝置和技術。
中國作為半導體産業的後起之秀，擁有龐大的市場和需求，但在設計和制造方面仍有很大的差距，需要大量進口外國的裝置和晶片。中國意識到半導體産業的重要性，将其作為國家戰略，投入大量的資金和人力，推動自主創新和發展。中國的半導體産業，在一定程度上取得了一些進展，如華為的海思、中芯國際等，都能夠生産一些具有競争力的産品。中國還通過囤積DUV裝置和晶片，以及采用多層光罩等技術，嘗試突破美國的制裁，實作7納米以下的制程。
美國和中國的半導體之争，是一場沒有硝煙的戰争，也是一場沒有結束的博弈。