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危機更新!荷蘭宣布光刻機管制加碼,中國晶片自主要走出新路

作者:奇點聊财經

#時事熱點頭條說#

美國對大陸半導體行業的限制,又在變本加厲了。

6月30日,荷蘭政府釋出《先進半導體制造裝置法規》,加碼了對大陸光刻機出口的管制。

荷蘭光刻機巨頭ASML也釋出公告,稱最先進的浸沒式DUV光刻機出口需要獲得荷蘭政府認可。

這裡可能會有人疑問:

不是早在2年多以前,荷蘭光刻機就被禁止向大陸出售了嗎?怎麼又來了一輪禁售?

這裡需要指出的是,當初荷蘭受美國逼迫對中國禁售光刻機,指的是能生産14nm以下最先進制程晶片的EUV光刻機。

但如今,适用于14nm以上的中低端晶片生産,部分先進的浸潤式DUV光刻機也遭受了限制。

換句話說,隻限制荷蘭對華出口高端EUV光刻機還不算完,美國還要把低端光刻機領域也徹底堵死,全方位遏制大陸半導體産業發展。

面對美國對大陸半導體産業發展的圍追堵截,大陸晶片行業想要迎頭趕上,乃至于實作彎道超車,必須要堅持自主研發,走出一條新路。

危機更新!荷蘭宣布光刻機管制加碼,中國晶片自主要走出新路

荷蘭被迫限制對華出口光刻機

對荷蘭的ASML公司而言,從自身的利益出發,其實完全沒有限制對華出口光刻機的理由。

2019年,中國對于光刻機的需求已經占到了全球市場的将近40%。

再加上這幾年國内對光刻機的需求繼續增長,有專業人士預計,到今年年底大陸光刻機需求占全球市場的占比将達到50%。

對于ASML這樣一家幾乎已經形成壟斷的公司來說,顯然不可能願意放棄占據自身業務量一半的龐大市場。

實際上,2022年10月美國釋出對華最強的半導體技術管制,荷蘭最初選擇了拒不跟随。

荷蘭外貿大臣施賴納馬赫爾表示:

“荷蘭不會一比一照搬美國(對華出口)的措施。”

ASML的首席執行官彼得·溫甯克更是公開質疑美國的雙标做法:

“美國的晶片制造商能夠對中國銷售最先進的晶片,可ASML卻隻能對中國銷售較舊的晶片制造裝置,這似乎有些沖突。”

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但可惜的是,即便ASML是全球唯一的光刻機巨頭,但生産光刻機的關鍵零部件本土化率并沒有那麼高,以EUV光刻機為例,隻有大約45%的零部件在荷蘭本土生産,其餘55%都要依靠美國及其盟友日德等國的進口。

是以,如果荷蘭不答應限制對華光刻機的出口,就會被美國“卡脖子”,是以不同意也沒辦法。

盡管ASML能夠生産全球最頂尖的光刻機裝置,中國又有全球占比最大的市場,但由于美國從中作梗,二者無法達成交易,實作雙赢。

中國光刻機産業發展如何?

首先需要承認的一點是,大陸光刻機産業發展距離全球頂尖,乃至于實作自給自足,還有很大一段距離。

比如光刻機制造的第一個難點,也就是機器的光源問題。

現在全球隻有美國的Cymer掌握着成熟的制造技術,就連ASML也需要向其采購預訂。

目前大陸首台EUV光源工程樣機已經正式落地,但盡管已經研發成功,也隻是剛剛為量産打下基礎,距離此項技術真正成熟,真正完成配套光刻機的生産,還有一定的差距。

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再以光刻膠為例,光刻膠是光刻機生産、晶片生産的核心原材料之一,主要被用作抗腐蝕塗層材料。

目前在高端光刻膠領域,日本遙遙領先,足足占據全球市場的75%,掌握了高端光刻膠市場的絕對話語權。

而大陸目前光刻膠發展還處于起步階段,就拿ArF光刻膠來說,這種光刻膠被用于制作14nm到130nm的光刻機、晶片上,大陸ArF光刻膠的國産自給率隻有1%,還需要向日本專門進口。

是以,雖然大陸半導體産業發展迅猛,在光刻機制造研發領域一直在發力,但這種真正的高精尖科技領域,想要實作突圍難度相當之大。

尤其美國為限制大陸半導體産業發展無所不用其極,除了技術、關鍵裝置之外,甚至在材料領域也是圍追堵截,進一步加大了大陸光刻機研發制造的難度。

光刻機産業距離突破,未來還有比較長的一段路要走。

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中國晶片自主要走出新路

其實與大陸在新能源汽車領域的發展路徑類似,國産光刻機想要真正突破西方限制,更重要的是針對未來方向的布局,實作彎道超車。

以汽車産業為例,汽車制造業被譽為工業上的明珠,是可以作為國家經濟支柱的産業之一。

但傳統燃油車時代,由于大陸工業起步落後,失去了先發優勢,導緻外國汽車對于國産車形成了碾壓局面。

消費者甯可花費翻倍乃至于幾倍的溢價去購買合資車,也不願意購買相對低端的國産車,國産車企也因為技術落後、利潤微薄,隻能勉強維持經營。

不過,随着國家加大對于新能源汽車産業的扶持力度,國産新能源汽車産業蓬勃發展,一衆國産車企迎來了新生。

去年,大陸新能源汽車産銷已經連續8年位列全球第一,動力電池裝機量前10企業中,大陸占據6席,真正實作了汽車工業上的彎道超車。

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而如今光刻機産業面臨着類似的局面,大陸不僅缺乏先發優勢,而且面臨着西方國家的層層限制。

且生産一台高端EUV光刻機,需要超過10萬個零部件,全球5000家以上企業合作,其中的技術研發難度可想而知。

短時間内想要在國内建設一條完備的光刻機産業鍊,絕非易事。

是以,如今除了繼續在國産光刻機研發制造上實作突破之外,也要基于未來方向進行布局,圍繞下一代半導體的材料、器件與工藝方向進行持續的研發投入,進而形成反制手段。

想要繞過光刻機的路徑,就必須不斷地進行嘗試,比如大陸的超分辨率光刻機、量子晶片、光子晶片等生産線,都在規劃過程中,國内首條多材料光子晶片産線也即将于今年建成。

總而言之,面對西方國家對大陸半導體産業的封鎖,除了腳踏實地,繼續堅持在光刻機研發制造上的投入之外,也要“仰望星空”,從另一個方向去試探新的出路,針對未來進行布局。

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寫在最後:

從另一種角度來看,美國限制大陸晶片産業研發,也并不完全是一件壞事。

這相當于直接幫我們斷掉後路,逼着我們一門心思搞自主研發,盡快實作光刻機産業的突破。

當初ASML總裁曾口出狂言,稱就算中國對着圖紙也造不出光刻機。

如今中國不斷在光刻機産業發力,且已經取得了一定的成績,事實會證明,中國并不懼怕各種層層加碼的限制,光刻機國産化隻是時間早晚的問題。

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