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【章節概覽】
這章介紹了如何使用可選的位移貼圖（Displacement Mapping）執行Catmull-Clark細分曲面（Catmull-Clark Subdivision Surfaces）的視圖相關的自适應鑲嵌（Adaptive Tessellation）。使用GPU進行鑲嵌計算，這可以節省圖形總線帶寬，并且比使用CPU快許多倍。
【核心要點】
文中通過重複細分（repeated subdivision）的方法來實作鑲嵌，通過渲染到2D紋理來實作。細分，平坦度測試（Flatness Test）和最終頂點屬性計算使用片元着色器（也稱像素着色器）完成。該方法假設細分曲面控制網格的頂點資料存儲在紋理貼圖中。中間結果也渲染到紋理貼圖并從紋理貼圖讀取，并且最終的鑲嵌結果（位置，法線等）被渲染到一個頂點數組中，以被渲染圖元（render-primitives）如glDrawElements()函數使用。
對立方體的Catmull-Clark細分
自适應鑲嵌（Adaptive Tessellation） vs. 均勻鑲嵌（Uniform Tessellation）
總之，這章介紹了一個結合使用廣度優先遞歸（breadth-first recursion algorithm）細分算法在GPU上鑲嵌細分表面的方法。文中描述了執行平坦度測試、實作細分和計算極限表面屬性所需的着色器。而且解釋了如何修改着色器來添加位移映射的支援，以增加細分表面模型的幾何細節。
【關鍵詞】
Catmull-Clark細分 （Catmull-Clark subdivision）
位移貼圖（Displacement Mapping）
平坦度測試（Flatness Test）
GPU鑲嵌（GPU Tessellation ）
自适應鑲嵌（Adaptive Tessellation）