ASML好日子到頭了？美媒傳來消息，關乎中國市場光刻機出貨問題。
ASML憑借着光刻裝置成功“出圈”，在EUV光刻機成功商用之後，成為行業内“一騎絕塵”的存在，後續和台積電的相輔相依，不斷的對對工藝進行更新，成功實作了對中高端光刻裝置市場的壟斷。
獨一無二的技術也奠定了行業内的地位，7nm及以下的晶片制造離不開EUV光刻機，集結了全球二十多個國家的頂尖技術，需要組裝超過數10萬的零部件，也注定了其它企業很難與之競争。
于此同時ASML也給自己留下了巨大的“隐患”，從晶片規則實施開始，含美技術體系就不被信任，無法實作技術去美化的ASML，也逐漸被“拿捏”，近日美媒傳出了新消息，ASML的好日子或許要到頭了！
彭博社傳出消息
晶片規則實行初期，ASML就不被允許出貨EUV光刻機給中國市場，彼時中企也沒有能力布局高端産能，其也就半推半就的答應了，但期間在DUV光刻機的合作上，從來就沒有中斷過。
有了梁孟松的加入，中芯國際早就在2019年的時候，就已經實作了14nm晶片的量産，并且開始着手7nm工藝的研發。如今已經擁有了相對應的量産能力，可惜無法擷取到EUV光刻機，阻礙了工藝的進一步更新，但中國半導體産業發展并沒有就此被中斷。
在老美啟動相關限制之後，國内開始重視半導體産業的發展，不再相信國際産業合作，把重心放在了自主技術的研發上，在華為等中企的努力之下，距離完全自主化的産能布局，基本上隻差DUV光刻機了。
美企在高端晶片的代工上，也要高度依賴于台積電和三星，本土最先進的英特爾在高度扶持之下，才勉強實作了7nm量産工藝，實際的困境和中企并沒有什麼兩樣，這也讓美半導體産業感受到了壓力。
在限制了台積電的代工合作之後，依舊無法阻攔中國半導體産業前進的步伐，隻能将目光瞄準了ASML、尼康、佳能等等光刻裝置企業上，目前正在施壓日本、荷蘭跟進最新的限制措施，談判已經進入到了關鍵階段。
就在1月27号，美媒彭博社傳來了新消息，關乎的正是中國半導體裝置的進出口問題，其表态：“它們将限制先進半導體裝置出口中國市場，具體是否會觸及DUV裝置還未可知。”
而ASML的負責人近日再度表态：“主導針對中國半導體的進出口管制措施，隻會加速實作産業的自主化！”
要知道這并非ASML首次做出類似回應，在荷蘭猶豫不決的關鍵時刻重申态度，說明局勢已經不明朗了，這對于公司後續的布局而言是極其不利的，那是否意味着ASML的好日子要到頭了呢？
ASML的好日子到頭了？
在下行市場格局生變的情況下，高端晶片的銷量持續下滑，反倒是成熟工藝需求量不斷增長，各大晶片廠商相繼縮減了資本開支，取消了原定的擴産計劃。
意味這ASML的EUV産能大幅擴充的情況下，客戶的數量卻在不斷的減少，顯然想要保證足額的營收，需要DUV光刻市場的助力，隻要能夠抓住中國市場，就足以滿足一切的條件。
不可否認的是，一旦ASML的光刻機被限制出口，對大陸半導體産業的發展，肯定是會造成很大影響的，但這個時間并不會維持很長時間，國内已經突破了28nm光刻機的核心技術，距離最終的量産商用不會太久。
凡事都存在有兩面性，一旦面臨這樣的結局，國内勢必會湧入大量的人才和資金，全力去突破DUV光刻機，這個時間段将再度縮小，是以留給ASML的時間不多了，如果不能保住中國市場，就意味着出局了。
無法擺脫含美的技術，本身就是ASML的一大缺陷，如今的市場環境，美技術體系不再被信任，各個國家和地區都在尋求自主化，ASML是憑借着對光束的更新的方案實作行業領先，如今很多的技術方向已經成型了。
華為在晶片堆疊工藝、光子晶片、超導量子晶片研發上，均已掌握了核心的技術專利，隻要其中一項技術能夠突破，就能夠擺脫對于光刻裝置的依賴，屆時領域單一的ASML地位将直線下滑。
目前矽基晶片的發展，已經面臨摩爾定律極限的問題，後續産業更新的時間将會拖長，這也恰巧是國産半導體突破的機遇。
ASML如果不能保證DUV光刻機的自由出貨，自然就意味着好日子到頭了，對此你們是怎麼看的呢？#頭條創作挑戰賽#