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ASML首次對外承認,結局已定

作者:秒看科技界

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随着電子産業的迅猛發展,全球市場對于晶片的需求量也迎來強勁的增長,在這樣的情況下,為了緩解晶片供應緊張的局面,很多國家地區都加大了在半導體産業的布局。大陸由于在半導體領域起步較晚,國内晶片很大程度上都依賴進口。

ASML首次對外承認,結局已定

但随着華為的事情發生,大陸晶片被“斷供”,大陸便加快了晶片國産化程序,但此時,高端光刻機的缺失又成為制約大陸晶片制程的一個關鍵點。

大家知道,随着美國幾次三番修改“晶片規則”,ASML便無法對我們自由出貨EUV光刻機。EUV光刻機作為7nm以下高端制程晶片必不可少的制造裝置,沒有它想要量産高精密度晶片基本上是不可能實作的。

作為全球最大的半導體裝置制造商,ASML在全球中高端光刻裝置市場上份額占比高達90%以上,由于其供應鍊的特殊性,在EUV光刻市場中更是形成了壟斷地位。

ASML首次對外承認,結局已定

ASML的EUV光刻機制造技術複雜,很多零部件都是和供應商一起研發出來的,連ASML自己也隻掌握了18%的技術專利,也是是以,在美國修改了“晶片規則”之後,使用了部分美國技術的ASML在EUV光刻機的出貨自由上無法自己作出決定。

大陸半導體企業中芯國際為了緩解國内晶片緊張的現狀就曾耗資十億向ASML全款訂購了一台EUV光刻機,但直到現在這台光刻機仍無法在大陸境内落地。

此外,EUV光刻機也不是說生産便能生産的,由于産能有限,一般都是有限供應給台積電、英特爾、三星這樣的國際大廠,在這些半導體廠商擴大産線規模後,EUV光刻機更是緊俏,不是說買就能買的。

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此前三星電子公司董事李在镕兩次到訪ASML,就是尋求更多EUV光刻機的出貨量。

ASML首次對外承認,EUV光刻機可能供過于求

為了緩解全球晶片的緊缺,ASML也加快了光刻機的出貨速度,根據ASML 在2022第一季度财務會議上釋出的消息,預計在今年實作出貨55台EUV光刻機,在2025年實作90台EUV光刻機的出貨。

但同時,ASML也承認,90台EUV光刻機可能會超過2025年的實際需求。根據ASML在第一季度披露的财報資料顯示,在今年第一季度EUV光刻機的出貨僅有三台。此外,ASML最新研發的下一代high NA-EUV光刻機目前也隻收到了六台的訂單。

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但ASML表示,這是為了實作2030年1萬億美元半導體行業需求所做出的巨大努力。

但事實上,誰都明白,明知道會供過于求一般情況下都是縮減産量,而且一台EUV光刻機造價不菲,虧本生意誰都不會做。是以就有業界猜測,這是不是在為了給大陸市場供貨做準備。

之是以作出如此猜測原因有三

首先,如今大陸已經成為全球最大的半導體消費市場,而且随着國家的重視,更多企業進入半導體領域,光是在去年一年大陸新增的半導體企業就增加了4.74萬家,同比增長105.06%,在全球20家增速最快的晶片企業中,大陸企業就占了19家,與上一年的8家相比增長了137%。

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随着大陸半導體相關企業的增加,大陸晶片産能也會随之增加,對光刻機的需求也就越來越大。

根據ASML第一季度的營收情況來看,總營收額為35.34億歐元,毛利率為49%,與上個季度54.2%的毛利率相比下滑了19%。

ASML在第一季度向大陸大陸市場出貨的DUV光刻機就有23台,而且ASML在大陸的市場佔有率已經超過美韓等國家,市場佔有率占比達到34%。大陸已經超越美國成為ASML的第三大市場。

從這組資料來看,毫無疑問,面對大陸如此廣闊的市場前景,ASML是不願意放棄的。

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其次,随着中科院等科研機構和上海微電子、長春光機研究所等光刻機廠商的共同努力,近兩年來,國産光刻機實作了多方面的技術突破。

雖然目前國内光刻機的技術和生産能力不能滿足國内晶片市場的需求,但近年來國産化替代率的進步速度和提高也是有目共睹的。例如,據報道,由上海微電子有限公司自研的國産DUV光刻機将于明年正式推出。

在晶片工藝制程上,中芯國際也已經掌握了7nm制程,目前已經進入風險試産,在成熟工藝上,14nm、28nm制程更是已經能滿足一部分國内生産需求。

ASML首席執行官 Peter Wennink就多次公開表示:限制對中國EUV光刻機的出貨毫無益處,他們将在3到5年内掌握這項技術,到時候ASML的光刻機很可能就被淘汰了。

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最後,ASML的 EUV光刻機實際上有一個很大的缺點,那就是耗電量極大。台積電此前就出現過電力不足的問題,但當時很多人都覺得這是台積電的問題,事實上,這真不賴台積電。

随着近期中國台灣省的電費正在急劇上漲,台積電每年要多交40億的電費,現在台積電每年要交的電費已經超過300億。

隻不過在之前,由于EUV光刻機的不可替代性,這個問題很少被人注意到,可以說即使注意到了也沒辦法,但以後就說不準了。

寫在最後

現在很多地區都因為老美的晶片禁令正在加大光刻裝置和光刻技術的自研,如铠俠和佳能就聯合研發出納米壓印微影技術(NIL),目前已經能實作15nm制程的量産,不使用EUV光刻機最高能制程能達到5nm。

此外,堆疊晶片等新的技術也正在出現,EUV光刻機最後被别的技術取代的結局是可以預見的,ASML也開始有危機感了。