5 月 20 日，荷蘭 ASML 公司制造新一代光刻機，登上微網誌熱搜。據報道，ASML 正制造新款極紫外光線（EUV，extreme ultraviolet）光刻機，預計每台售價約4億美元，約合人民币27億元，或将在2023年上半年完成制造，并有望在2025年用于晶片供應商。
據悉，該光刻機重達200多噸，有“雙層巴士”那麼大，旨在生産可用于手機、筆記本電腦、汽車以及人工智能等領域的計算機晶片上所需的微觀電路。
ASML 的總部位于靠近比利時邊境的荷蘭南部小鎮維爾德霍芬（Veldhoven），該公司的高管告訴外媒，該公司和其長期合作夥伴——一家名為IMEC的非營利性研究機構正建立一個測試實驗室。這也意味着，未來全球頂級晶片制造商和供應商，可以試用該光刻機的性能，以決定是否購買。
EUV，即ASML最先進的機器所使用的光波波長，指的是電磁波譜中波長從121納米到10納米的電磁輻射所在的頻段。ASML CEO彼得·溫甯克（Peter Wennink）告訴媒體，過往10年間該公司已出售大約140台EUV光刻機，單價約2億美元一台。
而本次研發的是使用“High-NA”的EUV。對于ASML來說，隻有實作此次研發目标，才不會讓自己喪失競争力和失去訂單。
該項目的“命運”對ASML的客戶來說也很重要，因為晶片制造商在全球資源短缺的情況下競相擴大生産。比如英特爾、三星、台積電等，其中台積電正在為蘋果、AMD和英偉達等公司生産晶片。
據悉，ASML的機器每台成本高達1.6億美元，但是機器短缺是晶片制造商正面臨的瓶頸。是以，晶片制造商們計劃在未來幾年花費1000多億美元建造額外的制造工廠，以便滿足客戶需求。
此前，台積電在2010年代末首次整合了ASML的EUV機器，借此一舉超越競争對手。也正是以，台積電的競品廠商曾表示，不會再在“High-NA”上“犯錯”。
在縮小晶片制程上，EUV光刻機承擔着重要作用。“High-NA”技術有望将電路面積降低66%。在晶片制造中，越小的才越好。因為在同一空間中封裝的半導體越多，晶片就越快、越節能。
目前，晶片電路正接近原子水準，這也讓人們開始認為“摩爾定律”是否已經接近尾聲。摩爾定律于20世紀60年代被首次提出，指的是晶片上的半導體數量大約每兩年翻一番。
而采用“High-NA”的機器将比之前的機器大30%左右，IMEC表示，它認為和ASML共同建立上述實驗室，可為晶片制造商節省長達一年的開發時間。
ASML方面稱，它有5台試驗機器的訂單，将于2024年傳遞。此外，還有來自5個不同客戶的訂單，故從2025年開始，ASML将加快生産模型的傳遞。
但在複雜部件的內建上，ASML仍存在巨大挑戰，其中就包括由德國卡爾蔡司在真空中制造的抛光、超光滑曲面鏡的光學系統。
回顧過往，自 2000 年以來，ASML從日本競争對手尼康和佳能手中快速奪取了市場佔有率。自那時至今，ASML控制着超過90%的光刻市場。以至于沒有任何競争對手敢以高開發成本，去建構類似的EUV系統。過去十年間，該公司的發展十分順遂，股價一度飙升1000%，目前市值為2145.22億美元，同時也獲得了光刻系統的全球大部分訂單。
雖然ASML在業内享有近乎壟斷的地位，但是“定價取決于機器生産力”。與此同時，有能力生産領先晶片的公司數量正在減少，ASML又必須向其出售EUV工具，其中也包括記憶體晶片制造商SK海力士和美光（Micron）。
一些研究人員預計，ASML在未來十年的年銷售額将翻倍，并有望超過1萬億美元。但是，一個必須面臨的現實是，ASML 在“High-NA”技術的供應鍊上仍面臨着一定壓力。美國塔夫茨大學弗萊徹學院助理教授克裡斯·米勒（Chris Miller）告訴外媒，雖然ASML是荷蘭企業，但在光刻機的零部件上，仍在嚴重依賴美國供應商。
此外，由于投資人預計ASML将獲得更進一步的主導地位和業績增長，以證明其2021年市盈率35倍的估值是合理的，是以就算該公司遇到技術阻礙或供應鍊障礙，它也幾乎沒有犯錯的餘地。
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