做為IDM 2.0戰略的一部分，Intel上周公布了野心勃勃的産品及技術工藝圖，其中先進工藝的更新換代非常激進，不到4年内就要更新5代工藝，而且從2025年開始的新一代工藝開始會首發新一代的EUV光刻機，價格超過19億一台。
Intel之是以這麼激進，是因為在搶先使用EUV工藝上吃過虧，他們原本計劃在10nm節點就上EUV工藝的，但是EUV光刻機當時還不成熟，随後被台積電、三星搶先了，陰差陽錯之下工藝落後了。
Intel現在的計劃是在Intel 4工藝（之前的7nm工藝）中使用EUV光刻機，計劃今年下半年投産，首發産品是2023年的14代酷睿Meteor Lake處理器。
現在的EUV光刻機還是NA 0.33技術的，Intel的重點押注在了下一代EUV光刻機，也就是NA 0.55的ASML新一代光刻機，據說成本高達3億美元，約合19億元。
實際上4年來Intel實際上已經下單了6台NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發，産能輸出是185WPH，每小時生産185片晶圓，2023年上半年傳遞。
量産型的NA 0.55光刻機是Twinscan Exe:5200，産能提升到200WPH，每小時200片晶圓，預計會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量産。
不過Intel這次搶先下單不怕下代EUV光刻機延期嗎？對于這個問題，主管Intel工藝技術的高管Ann Kelleher日前在采訪中也談到了這個可能性，但她表示就算延期了也不會讓公司破産，而是有個B計劃。
至于Intel的B計劃怎麼解決新一代EUV光刻機跳票問題的，這就沒有明确資訊了。
