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光刻機巨頭ASML稱中企可能侵權,中企稱關鍵技術完全自研

作者:觀察者網
光刻機巨頭ASML稱中企可能侵權,中企稱關鍵技術完全自研

【文/觀察者網 呂棟】

當地時間2月9日,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)在2021年财報中宣稱,中國企業東方晶源(Dong Fang JingYuan Electron,DFJY)正在中國積極銷售可能(could potentially)侵犯阿斯麥知識産權的産品。而阿斯麥所稱的東方晶源關聯公司XTAL,曾在2019年被美國法院判定侵犯阿斯麥知識産權。

觀察者網随後聯系了東方晶源,對方從業人員稱暫時不友善回應此事。而阿斯麥中國方面告訴觀察者網,此事與XTAL之前的侵權案有關,是年報中的正常披露。阿斯麥正在密切關注東方晶源的動态,目前尚未準備采取法律措施,但如果有确鑿證據該公司将訴諸法律。

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阿斯麥研發人員 圖源:阿斯麥

中企稱關鍵技術完全自研

據阿斯麥财報中披露的資訊,該公司在2021年初獲悉,一家與XTAL公司有關的公司正在中國積極推銷可能侵犯阿斯麥知識産權的産品,2019年XTAL曾因在美國盜取阿斯麥的商業秘密被判定做出賠償。作為回應,阿斯麥已經告知客戶不要協助這家名叫“東方晶源“的中國公司從事此類潛在的侵權行為。阿斯麥還透露,該公司已向中國監管部門告知相關資訊,正在密切監測相關情況,并準備在适當的時機采取法律行動。

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阿斯麥2021年财報截圖

觀察者網查詢發現,東方晶源全稱為東方晶源微電子科技(北京)有限公司,成立于2014年,總部位于北京亦莊經濟技術開發區,專注于內建電路良率管理。亦莊國投曾披露,東方晶源由中國500強企業東方集團投資控股,而東方集團是一家成立于1978年的大型投資控股型民營企業。

從具體業務來看,東方晶源主要産品為納米級電子束缺陷檢測裝備(EBI)和關鍵尺寸量測裝備(CD-SEM)、計算光刻産品(OPC)以及微電子設計與制造智能良率優化平台(HPOTM)。該公司稱,其産品均為自主研發且處于國内領先水準,可以有效解決國内內建電路産業多個難點。

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東方晶源官網截圖

而阿斯麥官網顯示,該公司産品除光刻機之外,也包括用于提高晶片良率和品質的計算光刻,“如果沒有計算光刻,晶片制造商就不可能制造出最新的技術節點”。

有資深半導體行業人士告訴觀察者網,在光刻過程中,光的衍射以及感光層中的實體和化學效應會使光刻機試圖刻出的圖像變形,是以需要計算光刻進行校準和優化。簡單來說,計算光刻類似EDA中的算法,是一種晶圓廠需要購買的服務,如果曝光圖形跟實際掩膜(Mask)有差異,可以通過計算光刻提前修正掩膜確定得到想要的圖形。一般來說,如果晶圓廠覺得阿斯麥的計算光刻不夠好,也可以選擇第三方提供的産品,二者由此便會形成競争。

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阿斯麥官網截圖

荷蘭媒體無理攻擊中國,遭阿斯麥反對

本次阿斯麥除指控東方晶源可能侵權外,還特意提到東方晶源與XTAL存在關聯,而阿斯麥與XTAL的知識産權糾紛發生在數年之前,彼時還曾引發一些外媒對中國的無理攻擊。

事情要從2016年說起。當年5月,阿斯麥向美國法院起訴美國公司XTAL,指控XTAL盜取阿斯麥美國子公司Brion的某些源代碼和知識産權,并且稱XTAL誘導和教唆阿斯麥員工在離職前秘密為其工作。

根據官方介紹,Brion是計算光刻概念的提出者,該公司2007年被阿斯麥收購。而XTAL于2014年由兩名曾在Brion工作過的員工創立,緻力于提高半導體制造過程中的良率,業務也包括計算光刻。據當時的外媒報道,XTAL在成立後發展迅猛,而阿斯麥在失去一個關鍵客戶的合同後開始對XTAL産生懷疑。

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Brion相關介紹

阿斯麥向法院提出的指控稱,在XTAL成立1年後,兩名阿斯麥員工辭職加入該公司,這兩名員工将Brion的商業機密複制到儲存設備上帶走,用于促進XTAL的業務,并且他們随後還與兩名仍在Brion工作的前同僚一起竊取機密資訊。

本來企業之間出現商業糾紛也很正常,但總有部分外媒想趁機将此事上升到國家層面。

在這起案件的審理過程中,荷蘭媒體《Financieele Dagblad 》報道稱,XTAL涉案的六名員工全部是中文名字,而且XTAL是中國公司東方晶源的子公司。由此該媒體宣稱這起侵權案與中國政府有關系,阿斯麥的技術可能會落入中國手中,是一起所謂的“國家間諜活動”。

這種說法一出,阿斯麥率先表示反對。2019年4月,該公司釋出官方聲明稱,XTAL及其前員工的目的是利用竊取的商業秘密和知識産權發财緻富(enrich themselves),阿斯麥沒有發現任何中國政府直接參與此事的證據。“我們對任何認為這起案件會影響阿斯麥在中國開展業務的說法表示不滿。其中一些人碰巧是中國公民,但也有其他國家的人參與其中。”

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時任中國外交部發言人陸慷曾指出,中國和荷蘭在科技領域一直保持着良好的合作。我們多次重申,中國政府高度重視知識産權保護。我們一向要求海外的中國公民和企業遵守駐在國法律。至于中國自身,中國的科技發展一不靠偷,二不靠搶,是中國人民用自己的智慧和汗水,辛勤奮鬥出來的。

阿斯麥CEO溫彼得則在一份聲明中稱,該公司對中國緻力于尊重和保護非中國公司的知識産權感到鼓舞。

不過,阿斯麥當時沒有提及XTAL和東方晶源的具體關系。但該公司披露,XTAL背後的資金來自中國和南韓,其目标是創造一種競品出售給阿斯麥在南韓的客戶。阿斯麥同時透露,XTAL竊取的是用于掩模優化的軟體,這一業務與阿斯麥的主要業務是分開的,在該公司年收入中占比不到1%。“是以,媒體關于阿斯麥核心技術受到影響的說法是不符合事實的。”

看到抹黑中國被阿斯麥拆台,部分荷蘭和美國媒體又将矛頭對準南韓,稱三星涉嫌盜竊商業機密。随後三星發聲明否認指控,阿斯麥方面也聲援三星,稱本次知識産權遭竊案的主要責任在于一些前員工。阿斯麥也再次強調,對荷蘭媒體對所謂是中國政府主導陰謀的持續猜測感到失望。

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2018年11月,美國加州一家法院初步裁定,XTAL盜竊知識産權的行為是惡意得,阿斯麥指控XTAL的所有五項罪名成立,可依法獲得懲罰性賠償。這五項罪名包括:竊取商業機密、誘使ASML前員工違反合同、協助和教唆前員工違反其對阿斯麥的誠信義務,以及多次違反加州的計算機資料通路和欺詐法案。

但一個月後,XTAL申請破産并試圖出售知識産權,法院隻能延遲判決。直到破産法院的程式完成後,聖克拉拉高等法院才在2019年5月做出最終裁決,判定XTAL賠償阿斯麥8.45億美元。但由于XTAL已經破産,阿斯麥無法拿到賠償金,隻是根據和解協定接手了XTAL的大部分知識産權,而XTAL則被禁止在一段時間内繼續與Brion相同的業務。阿斯麥彼時表示,法院判決賠償金的依據不是該公司受到的實際損害,而是根據XTAL通過竊取知識産權和商業機密節省的研發成本。

在XTAL侵權一案中,阿斯麥始終未提到東方晶源。但阿斯麥中國2月10日告訴觀察者網:“他們之間有關系是公開資訊”。

阿斯麥披露的财報顯示,該公司2021年營收為186億歐元(約合人民币1339億元),同比增長33%;淨利潤為59億歐元(約合人民币425億元),同比增長66%;毛利率為53%,比上年同期提高4個百分點。 2021年,該公司共出貨309台光刻機,比2020年多出51台;其中極紫外光刻機42台,比去年多11台。

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阿斯麥光刻機出貨資訊

截至發稿,東方晶源尚未對阿斯麥的說法做出回應。

2021年8月,東方晶源曾在官網釋出新聞稱,該公司作為國内內建電路領域良率管理先鋒企業,成功榮獲第三批國家級專精特新“小巨人”企業稱号,其三款核心産品填補了國内相關領域的空白,并且在産業化方面快速邁進,是目前國内唯一産線驗證并實作訂單的産品,對大陸半導體裝置供應鍊安全具有戰略意義。該公司還提到,東方晶源自成立以來堅持以創新引領發展,申報國内外發明專利145項,授權發明專利49項,軟體著作權14項,注冊商标15項。

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2021年9月,東方晶源披露,該公司完成新一輪數億元股權融資,本輪融資由賽領資本、深創投領投,衆多知名投資機構聯合投資。“此輪融資将有助于東方晶源加快在內建電路前道電子束檢測、計算光刻系統等核心産品的研發程序,加速在內建電路良率管理領域的整體布局。”

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圖源:東方晶源官網

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