在光刻機領域内，ASML是繞不開的話題，原因是ASML研發制造的光刻機最先進，尤其是EUV光刻機，目前僅有ASML能夠研發制造。
最主要的是，EUV光刻機是生産制造7nm以下晶片的必要裝置，從其被研發制造出來那一刻開始，EUV光刻機就供不應求，至今還積壓了幾十億歐元的訂單。
在這樣的情況下，ASML一邊提升EUV光刻機的産能，預計今後兩年生産制造115台EUV光刻機，一邊研發制造全新一代EUV光刻機，其就是NA值為0.55的EUV光刻機。
19億元！1nm！全新一代光刻機的NA值提升
據悉，目前ASML正在研發制造全新一代EUV光刻機，其被命名為NA EUV光刻機，而NA更是高達0.55，相比現有的NA值為0.33的EUV光刻機而言，有明顯的提升。
當然，全新一代光刻機的NA值提升，意味着光刻機精度更高，可以生産制造更小面積的晶片，甚至可達1nm。
要知道，台積電、三星都計劃在2024年量産2nm制程的晶片，而ASML全新一代EUV光刻機也計劃在2023年傳遞廠商研發測試，2024年規模量産。
這意味着ASML的全新一代光刻機至少能夠将晶片面積縮小到1nm，否則，僅用于生産3nm、2nm等制程晶片，實在是有點浪費。
另外，ASML全新一代光刻機的精度提升了，其工作效率也将随之提升。目前，更新版的EUV光刻機，每小時能夠曝光晶圓大約是170片12寸晶圓。
也就是說，2024年量産的全新一代NA EUV光刻機，但在機關時間裡自然能夠曝光更多12寸晶圓，晶片生産制造速度自然也随之增快。
不過，全新一代NA EUV光刻機的精度和生産效率等都得到了提升，這意味其工藝更複雜，成本也更高了。
消息稱，全新一代EUV光刻機的體積将會更大，高度都将挨着屋頂，運輸起來自然也要比現有的EUV光刻機需要更多卡車等裝置。
關鍵是，其價格也将幅度上漲，現有的EUV光刻機的售價在1億多美元，而新一代NA EUV光刻機的手機将會高達3億美元，折合人民币19億元左右。
還有一點，ASML已經将更新版的EUV光刻機優先給了英特爾，而英特爾也表示将會努力優先拿到了全新一代NA EUV光刻機。
因為英特爾是ASML的大股東之一，再加上，英特爾已經制定了晶片目标，并獲得了IBM的2nm晶片生産制造技術，這些都需要最先進的光刻機來實作。
或改變自由出貨結果
都知道，ASML的EUV光刻機是不能自由出貨的，即便是ASML多次争取，但日前還是表示，EUV光刻機暫時無法自由出貨。
不僅如此，EUV光刻機出貨安裝到外企中國分廠也受到了阻礙，不過，南韓晶片巨頭SK正在積極争取為中國工廠引進EUV光刻機，并表示目前進展順利。
如今，ASML的全新一代光刻機傳來新消息，不僅精度和效率得到了提升，關鍵是，将會在2023年傳遞廠商研發測試，這或将改變出貨自由結果。
因為EUV光刻機是當下最先進的光刻機，這是其不能自由出貨的主因，而全新的NA EUV光刻機傳遞後，現有的EUV光刻機就不再是最先進的光刻機。
另外，各大晶片廠商都在加速購買EUV光刻機，無論是處理器晶片還是儲存晶片都在普及EUV工藝，而ASML也想方設法提升EUV光刻機的産能。
也就是說，NA EUV光刻機在2023年傳遞測試時，EUV工藝可能就已經普遍，再限制EUV光刻機自由出貨也沒有多大實際意義了。